光刻胶是微电子技术中微细图形加工的关键材料之一，特别是近年来大规模和很大规模集成电路的发展，更是大大帮助了光刻胶的研究开发和应用。印刷工业是光刻胶应用的另一重要领域。1954 年由明斯克等人首先研究成功的聚乙烯醇肉桂酸脂就是用于印刷工业的，以后才用于电子工业。
光刻胶应用很广泛，给使用者节约了不少时间，也提高了工作效率;但是在使用中要注意哪些呢？
光刻胶使用注意事项：
①若腐蚀液为碱性，则不宜用正性光刻胶
②看光刻机型式,若是投影方式,用常规负胶时氮气环境可能会有些问题
③负性胶价格成本低，正性胶较贵
④工艺方面：负性胶能很好地获得单根线，而正性胶可获得孤立的洞和槽
⑤健康方面：负性胶为有机溶液处理，不利于环境；正性胶属于水溶液，对健康、环境无害
以上关于光刻胶的保养与使用注意事项就为大家分享到这里了，相信大家在看了以上所讲的内容后，在日后的操作中就可以更方便的使用光刻胶。
