1. 环境控制

超净间：需达到 Class 100（每立方英尺≥0.5μm 颗粒≤100 个）或更高标准，避免颗粒污染导致图形缺陷。

温湿度：温度控制在 22±0.1℃，湿度 30%-40%，避免光刻胶吸潮或基板热膨胀影响精度。

振动与静电：光刻机需安装在防振平台上，操作人员需佩戴防静电手环，防止静电吸附颗粒。

2. 光刻胶管理

存储条件：避光、低温（5-10℃）保存，避免光刻胶感光或变质。

有效期：开封后通常保质期为 3-6 个月，使用前需检查黏度和感光性能。

匀胶一致性：定期校准旋涂机转速和加速度，确保不同批次基板胶层厚度偏差≤1%。

3. 设备维护

光刻机校准：定期检查镜头像差、对准精度和曝光能量稳定性，使用标准晶圆（如硅片上的光栅图形）进行校准。

掩模版清洁：每次使用前用氮气吹扫，定期用等离子体清洗或专用溶剂去除有机污染。

刻蚀机维护：定期清理反应腔室内的聚合物沉积，避免刻蚀均匀性下降。

4. 工艺兼容性

多层光刻：若需进行多层光刻（如制造三维结构），需确保各层图形对准精度（套刻误差≤10% 线宽）。

材料匹配：光刻胶与基板、刻蚀气体的兼容性需提前验证，例如铝制程中避免使用含氯光刻胶（易腐蚀铝）。