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纳米模版
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    紫外硬化压印光刻技术(UV-NIL) 

    使用热压印光刻技术的热塑性高分子光刻胶须经过高温、高压、冷却的相变化过 程,在脱模之后压印的图案经常会产生变形现象,因此使用热压印技术不易进行多次或三维 结构的压印,为了解决此问题,有人开始研发一些可以在室温、低压下使用的压印光刻技术。

    UV 感光的液态高分子光刻胶,在模版和基板对准完成后,将模版压入光刻胶层并且照射紫 外光使光刻胶发生聚合反应硬化成形,然后脱模、进行刻蚀基板上残留的光刻胶便完成整个 UV-NIL。 紫外压印一个新的发展是提出了步进-闪光压印。步进-闪光压印发明于 Austin 的 Texas 大学,它可以达到 10nm 的分辨率。先将低粘度的单体溶液滴在压印的衬底 上,用很低的压力将模版压倒圆片上,使液态分散开并填充模版中的空腔。紫外光透过模版 背面辐照单体,固化成型后,移去模版。

    刻蚀残留层和进行图案转移,得到高纵横比的 结构。 很明显,紫外压印相对于热压印来说,不需要高温、高压的条件,它可以廉价的在 纳米尺度得到高分辨率的图形,它的工艺可用于发展纳米器件,其中的步进-闪光压印不但 导致工艺和工具成本的明显下降,而且在其他方面也和光学光刻一样好或很好,这些其他方 面包括工具寿命、模具寿命(不用掩模版)、模具成本、工艺良率、产量和尺寸重现精度。 但其缺点是需要在洁净间环境下进行操作。

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