微纳结构的制造依赖高精度加工手段，主要技术包括：

光刻技术

原理：通过光照射光敏材料，结合刻蚀工艺实现图案转移，如极紫外（EUV）光刻可实现纳米级分辨率。

应用：芯片制造（7nm 以下制程晶体管）、微纳光学元件（衍射光栅）。

自组装技术

原理：利用分子间作用力（如氢键、范德华力）使纳米单元自发排列成有序结构（如 DNA 自组装纳米机器人）。

优势：低成本、大面积制备，适用于柔性电子与生物医学领域。

纳米压印技术

原理：通过模具压印将图案复制到基材上，可批量生产纳米结构（如纳米压印光刻制造 OLED 偏振片）。

特点：效率高、成本低，适合工业化生产。

电子束 / 离子束加工

原理：利用高能电子束或离子束直接雕刻材料表面（如电子束写入制造纳米天线）。

精度：可达亚纳米级，用于科研与高精密器件研发。