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  • [行业动态] 纳米压印光刻技术及其发展现状

    1引言由于经济原因促使半导体业朝着不断缩小特征尺寸方向发展,随之而来的技术进步导致了设备的成本以指数增长。由于成本的增长,人们对纳米压印光刻这一低成本图形转移技术的关注越来越多。通过避免使用昂贵的光源和投影光学系统,纳米压印光
    发布时间:2019-08-02   点击次数:1661

  • [行业动态] 纳米压印发展现状

    目前,大量的研究机构开展了该技术的研究工作,惠普的研究人员StanWilliams用纳米压印光刻技术做出了线宽45nm的实验存储芯片,StanWilliams是惠普实验室的量子科学研究方向的研究主任,他说:"我们正在使用纳米压
    发布时间:2019-07-12   点击次数:551

  • [行业动态] 光刻技术的基本原理与工艺流程

    光刻(Lithography)技术是指光刻胶在特殊波长光线或者电子束下发生化学变化,通过曝光、显影、刻蚀等工艺过程,将设计在掩膜上的图形转移到衬底上的图形精细加工技术。据贤集网小编了解其最早应用于集成电路和半导体分立器件的微细加工。可以说,
    发布时间:2019-07-05   点击次数:201

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