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  • 纳米压印工艺解决方案

    纳米压印技术具有光学曝光的快速、大面积复制的优点,同时这种技术还具有可与电子束直写技术相比拟的纳米级分辨率。纳米压印是机械的压印过程,其分辨率不受光衍射、电子散射等限制,只取决于压印模板的图形以及压印条件。另外纳米压印成本低产量高,且操作简
    发布时间:2019-10-31   点击次数:48

  • 微纳结构与光电器件的关系

    微纳结构与光电器件的关系结合微纳光电器件的应用需求,通过数值计算和功能模拟实验,开发具有新型结构和功能的微光元件,提升微纳结构器件的光电特性和潜在应用;在分子与原子尺度上对纳米光电器件的物理化学结构、光电子传输与转换的动力学过程和机理开展研
    发布时间:2019-08-30   点击次数:28

  • 芯片制造关键技术——光刻技术

    光刻是集成电路重要的加工工艺,在整个芯片制造工艺中,几乎每个工艺的实施,都离不开光刻的技术。光刻也是制造芯片的关键技术,他占芯片制造成本的35%以上。在如今的科技与社会发展中,光刻技术的增长,直接关系到大型计算机的运作等高科技领域。光刻技术
    发布时间:2019-08-26   点击次数:67

  • 射线光刻掩模

    在后光学光刻的技术中,其主要且困难的技术就是掩模制造技术,其中1:1的光刻非常困难,是妨碍技术发展的难题之一。所以说,我们认为掩模开发是对于其应用于工业发展的重要环节,也是决定成败的关键。在过去的发展中,科学家对其已经得到了巨大的发展,也有
    发布时间:2019-08-19   点击次数:13

  • 光刻胶的分类

    光刻胶的技术复杂,品种较多。根据其化学反应机理和显影原理,可分负性胶和正性胶两类。光照后形成不可溶物质的是负性胶;反之,对某些溶剂是不可溶的,经光照后变成可溶物质的即为正性胶。图1是正性胶的显影工艺与负性胶显影工艺对比结果。利用这种性能,将
    发布时间:2019-08-07   点击次数:23

  • 借助中国传统文化,其实光刻原理就很简单了

    光刻(lithography)是芯片制造中的一项关键技术,也是微纳器件制备过程中不可少的一道工艺,其目的是在晶圆(衬底)上实现芯片设计所要求的图形。Lithography源于希腊语,其中litho,graphy的意思分别是stone,wri
    发布时间:2019-07-31   点击次数:19

  • 中国VS国外!光刻工艺差别在哪?

    作为制造芯片的核心装备,光刻机一直是中国的技术弱项,其技术水平严重制约着中国芯片技术的发展。荷兰ASML公司的光刻机设备处于世界先进水平,日本光刻设备大厂都逐渐被边缘化,国内更是还有很大的差距。那么中国光刻工艺与国外好的公司究然相差多少代技
    发布时间:2019-07-24   点击次数:33

  • 纳米压印技术的发展和加工过程

    纳米压印技术是一种新型的微纳加工技术。该技术通过机械转移的手段,达到了很高的分辨率,有望在未来取代传统光刻技术,成为微电子、材料领域的重要加工手段。纳米压印技术分为三个步骤一是模板的加工。一般使用电子束刻蚀等手段,在硅或其他衬底上加工出所需
    发布时间:2019-07-22   点击次数:24

  • 纳米压印技术的基本方法

    纳米压印技术原理基本一致,只是工艺变得更加简单、实用和廉价。1三种典型纳米压印技术的工艺方法及其关键技术1热压印(Hotembossing)热压印(Hotembossing)是很早开发出的纳米压印技术,相对其他技术,它也是被研究的很
    发布时间:2019-07-19   点击次数:32

  • 光刻加工的两道工序介绍

    光刻加工,在精密加工中占的比重虽然不大,但由于其重要性以及不可替代性,越来越受到重视,下面来简单介绍一下光刻加工。  光刻加工是一种主要用于制作集成电路、微型机械等的加工方法。对于高精度微细线条所构
    发布时间:2019-07-18   点击次数:24

  • 纳米压印技术的​热压印什么?

    纳米压印技术是目前纳米沟道加工的主要技术。传统的光刻技术主要是利用电子和光子改变光刻胶的物理化学性质,进而得到相应的纳米图形。而纳米压印技术则可以在不使用电子和光子的前提下,直接利用物理学机理机械地在光刻胶上构造纳米尺寸图形。正是由于这
    发布时间:2019-07-09   点击次数:30

  • 光刻技术概述及光刻技术的原理

    光刻是集成电路重要的加工工艺,他的作用,如同金工车间中车床的作用。在整个芯片制造工艺中,几乎每个工艺的实施,都离不开光刻的技术。光刻也是制造芯片的关键技术,他占芯片制造成本的35%以上。在如今的科技与社会发展中,光刻技术的增长,直接关系到大
    发布时间:2019-07-04   点击次数:16

  • 纳米压印公司为您解析纳米压印光刻加工技术

    1引言由于经济原因促使半导体业朝着不断缩小特征尺寸方向发展,随之而来的技术进步导致了设备的成本以指数增长。由于成本的增长,人们对纳米压印光刻这一低成本图形转移技术的关注越来越多。通过避免使用昂贵的光源和投影光学系统,纳米压印光
    发布时间:2019-01-25   点击次数:66

  • 光栅是什么?

    由大量等宽等间距的平行狭缝构成的光学器件称为光栅(grating)。一般常用的光栅是在玻璃片上刻出大量平行刻痕制成,刻痕为不透光部分,两刻痕之间的光滑部分可以透光,相当于一狭缝。精制的光栅,在1cm宽度内刻有几千条乃至上万条刻痕。这种利用透
    发布时间:2018-09-27   点击次数:10

  • 光刻加工光刻胶的主要技术参数有哪些?

    光刻加工光刻胶的主要技术参数有哪些?1.灵敏度(Sensitivity)灵敏度是衡量光刻胶曝光速度的指标。光刻胶的灵敏度越高,所需的曝光剂量越小。单位:毫焦/平方厘米或mJ/cm2。2.分辨率(resolution)区别硅片表面相邻图形特征
    发布时间:2018-09-27   点击次数:31

  • 光刻胶国产化道路:任重道远

    光刻胶:用化学反应进行图像转移的媒介光刻胶具有光化学敏感性,其经过曝光、显影、刻蚀等工艺,可以将设计好的微细图形从掩膜版转移到待加工基片。光刻胶产业链光刻胶和集成电路制造产业链的前端的即为光刻胶专用化学品,生产而得的不同类型的光刻胶被应用于
    发布时间:2016-07-27   点击次数:23

  • 我国半导体之殇--光刻机与光刻胶

    我国半导体之殇--光刻机与光刻胶光刻胶是由感光树脂、增感剂和溶剂等主要成分组成的对光敏感的混合液体。在紫外光、深紫外光、电子束、离子束等光照或辐射下,进行光化学反应,经曝光、显影等过程,将所需要的微细图形从掩模版转移至待加工的衬底上,然后进
    发布时间:2016-07-27   点击次数:40

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