紫外纳米压印胶一般由主体树脂、光引发剂、溶剂以及添加剂等四部分组成，根据主体树脂不同，紫外纳米压印光刻胶一般可分为环氧树脂、乙烯基醚、丙烯酸酯等几类。L Guo研究了一种新型的以环氧硅酮为中间体的紫外固化材料，该环氧硅酮中间体可通过加入乙酸丙二醇单甲基醚酯进行黏度调节，该配方能够得到20nm的压印图案。Micro Resist Technology公司推出了名为Mr-NIL-6000的紫外纳米压印胶，该配方在100℃下热压印再曝光60s可以得到纳米级图案；由于将热压印与紫外压印进行了有效结合，使图案的稳定性得到了提高。
    乙烯基醚体系为阳离子固化，聚合速率快，属于紫外纳米压印中常用的光刻胶体系。Kim等人对有机硅改性的乙烯基醚进行了深入地研究，他们以BVMDSO组成的光刻胶体系用于紫外纳米压印可以得到30nm的图案。
    丙烯酸酯体系早在1999年即引入到纳米压印技术中，目前该体系的紫外纳米压印胶是应用广泛的。Lee等人采用由甲基丙烯酸苯酯单体、聚甲基丙烯酸苯酯以及光引发剂组成的光刻胶在一个大气压下即可得到较好的图案。Williams等人采用苄基甲基丙烯酸酯、聚二甲基硅烷、光引发剂等组成的紫外压印光刻胶在20psi的低压下能够得到50nm的图案。由Micro Resist Technology公司推出的新型丙烯酸酯类Mr-UVCur06光刻胶，通过1%的I369引发剂进行固化时速度快，320nm-420nm光源下曝光可以得到尺寸为230nm-35nm的图案。
    然而，随着纳米压印图形的功能化发展，紫外纳米压印光刻胶的配方中逐渐被引入一些无机材料，而这些无机材料（粒子）的掺杂对压印胶薄膜的机械性能、抗刻蚀性能等有了改善，因此这一类紫外纳米压印胶的研究也广泛起来。J H Choi将银浆、甲基丙烯酸羟乙酯以及光引发剂等进行光刻胶配方研究，结果表明当银的含量在光刻胶中小于60%时并不影响图形质量；然而掺杂后的一个现象则是与甲基丙烯酸羟乙酯单体聚合的收缩率相比，掺杂银纳米粒子后光刻胶的收缩率达到了25%-35%，这将无法满足紫外纳米压印光刻胶的基本要求。
    含硅有机材料抗刻蚀能力强，生物相溶性好。因此很多学者对含硅紫外纳米压印胶进行了大量的研究。如Willson等合成了端基为环氧基团的多面低聚倍半硅氧烷，以此为原料加入引发剂制备光刻胶；结果表明在纳米压印中能够得到较好的图案，但整个体系黏度较大，且该聚合物在200℃下热分解严重，热稳定性较差。Girolamo等在笼状倍半硅氧烷八个顶点上各连接十个碳原子的环氧化合物，以此为聚合物单体再添加光引发剂配置紫外纳米压印光刻胶，得到了较好的综合性能。