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  • 微纳结构增材制造工艺

    日前,国家重点研发计划——微纳结构增材制造工艺与装备项目启动会在上海世博中心隆重召开。上海普利生机电科技有限公司(以下简称普利生)作为项目牵头单位联合东南大学、中国科学技术大学、华中科技大学、华东理工大学、南京大学、南京航空航天大学、长春理
    发布时间:2019-08-29   点击次数:24

  • 热压印模板要具备什么条件?

    热压印模板要具备以下条件:(1)高硬度:压模和撤模的过程中不容易变形和受损; (2)低膨胀系数:避免热膨胀程度不同及高压导致的图形变形;(3)好的抗黏性能:压模时 聚合物能浸润模板表面,撤模时聚合物能与基底分离。 综合上述条件限制,纳
    发布时间:2019-08-13   点击次数:27

  • 芯片升级全靠它,光刻技术到底是个啥?

    光刻是集成电路重要的加工工艺,他的作用,如同金工车间中车床的作用。在整个芯片制造工艺中,几乎每个工艺的实施,都离不开光刻的技术。光刻也是制造芯片的关键技术,他占芯片制造成本的35%以上。在如今的科技与社会发展中,光刻技术的增长,直接关系到大
    发布时间:2019-08-08   点击次数:20

  • 纳米压印技术为什么又叫纳米光刻技术

    微纳米技术(MEMS,nanotechnology)为微机电系统(MEMS)技术和纳米科学技术(nanoscienceandtechnology,nanoST)的简称,是20世纪80年代末在USA、日本等发达国兴起的高新科学技术
    发布时间:2019-07-26   点击次数:20

  • 台积电独家代工苹果A13处理器,极紫外光刻技术首次被应用!

    虽然距离苹果的新一代iPhone发布时间还有很长时间,但春节期间已经有产业链透露关于新一代iPhone的相关信息,在命名方面有可能继续采用2018年的三款产品名称——iPhoneXR、iPhoneXS以及iPhoneXSMax,但是
    发布时间:2019-07-10   点击次数:17

  • 纳米压印技术的​热压印什么?

    纳米压印技术是目前纳米沟道加工的主要技术。传统的光刻技术主要是利用电子和光子改 变光刻胶的物理化学性质,进而得到相应的纳米图形。而纳米压印技术则可以在不使用电子和 光子的前提下,直接利用物理学机理机械地在光刻胶上构造纳米尺寸图形。正是由
    发布时间:2019-01-25   点击次数:48

  • 纳米压印中的紫外固化压印是什么?

    纳米压印中的紫外固化压印是什么?紫外固化压印(UV-curableNanoimprintLithograhpy)则是目前综合优势好的压印技 术,它不需要高温、高压条件,加工精度高、加工效率高、对准性好。紫外压印新的一个改 进技术是步
    发布时间:2018-10-12   点击次数:23

  • 纳米压印工艺解决方案

    纳米压印技术具有光学曝光的快速、大面积复制的优点,同时这种技术还具有可与电子束直写技术相比拟的纳米级分辨率。纳米压印是机械的压印过程,其分辨率不受光衍射、电子散射等限制,只取决于压印模板的图形以及压印条件。另外纳米压印成本低产量高,且操作简
    发布时间:2018-10-12   点击次数:21

  • 光刻胶是什么?光刻加工为您大揭底

    光刻胶是一大类具有光敏化学作用(或对电子能量敏感)的高分子聚合物材料,是转移紫外曝光或电子束曝照图案的媒介。光刻胶的英文名为resist,又翻译为抗蚀剂、光阻等。广泛应用于集成电路(IC),封装(Packaging),微机电系统(MEMS)
    发布时间:2018-10-08   点击次数:20

  • 光刻加工光刻胶的特点有哪些?

    光刻加工光刻胶产品特点:1.光刻胶种类齐全,可以满足多种工艺要求的用户。产品种类包含:各种厚度的紫外光刻胶(正胶或负胶),lift-off工艺用胶,LIGA用胶,图形反转胶,化学放大胶,耐刻蚀保护胶,聚酰亚胺胶,全息曝光用胶,电
    发布时间:2018-10-08   点击次数:12

  • 光刻胶理论

    光刻胶定义光刻胶是一大类具有光敏化学作用(或对电子能量敏感)的高分子聚合物材料,是转移紫外曝光或电子束曝照图案的媒介。光刻胶的英文名为resist,又翻译为抗蚀剂、光阻等。因为光刻胶的作用就是作为抗刻蚀层保护衬底表面。光刻胶只是一种形象的说
    发布时间:2018-09-30   点击次数:17

  • 光刻胶使用时的注意事项

    光刻胶是微电子技术中微细图形加工的关键材料之一,特别是近年来大规模和很大规模集成电路的发展,更是大大帮助了光刻胶的研究开发和应用。印刷工业是光刻胶应用的另一重要领域。1954年由明斯克等人首先研究成功的聚乙烯醇肉桂酸脂就是用于印刷工业的,
    发布时间:2018-09-30   点击次数:14

  • 光栅有哪些分类?

    光栅种类点阵式全像立体光栅是一种新型的立体表现方式(也叫矩阵立体光栅),它的材料、观看、制作不同于柱镜立体光栅材料和狭缝立体光栅材料,制作出来的图象可以从上下、左右看。科技含量相当高,日本、台湾有这项全套技术,主要应用于防伪,还应用到显示屏
    发布时间:2017-12-14   点击次数:76

  • 光栅的好坏用什么区鉴别?

    光栅的好坏用什么区鉴别?膜材正面(光栅面)圆弧成型稳定,排列均匀,放大观察圆滑,手摸有明显凸起感,背面平整、无压痕;劣质品达不到上述标准,尤其背面手感有明显凹入压痕者,易造成粘接发虚不实、解像力差、图像眼晕眼花,为伪劣次次品。合格膜材线条成
    发布时间:2017-12-14   点击次数:67

  • 声表面波是什么?

    声表面波(SAW,SurfaceAcousticWave)是沿物体表面传播的一种弹性波。声表面波是英国物理学家瑞利(Rayleigh)在19世纪80年代研究地震波的过程中偶尔发现的一种能量集中于地表面传播的声波。1965年,怀特(R.
    发布时间:2017-12-14   点击次数:86

  • 什么是纳米材料?什么是卷对卷工艺?什么纳米压印光刻?

    纳米材料"纳米材料"是一个术语,包括所有纳米材料,包括工程纳米粒子、附带纳米粒子和自然界中存在的纳米物体。纳米为长度单位,1米=10的9次方纳米。纳米材料以生物材料或人类活动的副产品的形式存在于自然界中。例如,血
    发布时间:2017-12-14   点击次数:147

  • 光刻加工光刻胶光刻以及显影工艺介绍

    克服了普通光刻胶采用UV深宽比不足的问题,在近紫外光(365nm-400nm)范围内光吸收度很低,且整个光刻胶层所获得的曝光量均匀一致,可得到具有垂直侧壁和高深宽比的厚膜图形;它还具有良好的力学性能、抗化学腐蚀性和热稳定性;在受到紫外辐射后
    发布时间:2017-12-14   点击次数:72

  • 光刻胶材料的制备和基本要素

    光刻胶是微电子技术中微细图形加工的关键材料之一,特别是近年来大规模和很大规模集成电路的发展,更是大大帮助了光刻胶的研究开发和应用。印刷工业是光刻胶应用的另一重要领域。1954年由明斯克等人首先研究成功的聚乙烯醇肉桂酸脂就是用于印刷工业的,
    发布时间:2017-12-14   点击次数:67

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