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  • [媒体报道] 光刻加工光刻胶光刻以及显影工艺介绍

    克服了普通光刻胶采用UV深宽比不足的问题，在近紫外光（365nm-400nm）范围内光吸收度很低，且整个光刻胶层所获得的曝光量均匀一致，可得到具有垂直侧壁和高深宽比的厚膜图形；它还具有良好的力学性能、抗化学腐蚀性和热稳定性；在受到紫外辐射后
    发布时间：2017-12-14   点击次数：364

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