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普通光刻胶
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媒体报道
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光刻加工光刻胶光刻以及显影工艺介绍
克服了普通光刻胶采用UV深宽比不足的问题,在近紫外光(365nm-400nm)范围内光吸收度很低,且整个光刻胶层所获得的曝光量均匀一致,可得到具有垂直侧壁和高深宽比的厚膜图形;它还具有良好的力学性能、抗化学腐蚀性和热稳定性;在受到紫外辐射后
发布时间:2017-12-14 点击次数:400
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