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光刻技术的原理

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光刻技术的原理

发布日期:2019-09-17 作者: 点击:

    光刻加工(lithography)是芯片制造中的一项关键技术,也是微纳器件制备过程中必不可少的一道工艺,其目的是在晶圆(衬底)上实现芯片设计所要求的图形。Lithography源于希腊语,其中litho,graphy的意思分别是stone,writing,开始是一种印刷的方法,用来实现图形转移。


1.紫外光刻原理

    Photo lithography(也指optical lithography或UV lithography),即借助“光”来实现图形转移。主要利用光化学反应原理把事先制备在掩模版(简称掩模,mask)上的图光刻胶形转印到晶圆上的过程。不妨理解为,需要先做出设计的图形(手型),然后借助“光”将光刻掩模版(手)的图形,按照一定比例投影到晶圆(墙)上,从而实现图形转移。


2.影响图形尺寸的因素

    影响图形尺寸的几个因素:光源,光刻版,光刻版到基片的距离等。如果采用波长更短的紫外光源,采用分辨率更高的光刻版,并且将光刻版与基片接触,便可以获得更小尺寸的图形。下图中,如若将剪纸视为光刻版,宣纸当作基片。这便是主流接触式光刻的工作方式。

光刻加工哪家好

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