您好,欢迎访问光刻加工,纳米压印,微纳结构-无锡鼎元纳米科技有限公司官网!

首 页 >> 新闻中心 >> 行业动态

行业动态

产品分类

联系我们

企业名称:

联系人:

电话:

手机:

邮箱:

传真:

地址:

网址 :  www.micro-graph.com.cn   

纳米压印技术加工过程

您的当前位置: 首 页 >> 新闻中心 >> 行业动态

纳米压印技术加工过程

发布日期:2020-07-23 作者: 点击:

纳米压印技术分为三个步骤。


一是模板的加工。一般使用电子束刻蚀等手段,在硅或其他衬底上加工出所需要的结构作为模板。由于电子的衍射远小于光子,因此可以达到远高于光刻的分辨率。


二是图样的转移。在待加工的材料表面涂上光刻胶,然后将模板压在其表面,纳米压印软模板采用加压的方式使图案转移到光刻胶上。注意光刻胶不能被全部去除,防止模板与材料直接接触,损坏模板。


三是衬底的加工。用紫外光使光刻胶固化,移开模板后,纳米结构复制用刻蚀液将上一步未完全去除的光刻胶刻蚀掉,露出待加工材料表面,然后使用化学刻蚀的方法进行加工,完成后去除全部光刻胶,得到高精度加工的材料。

纳米压印软模板

本文网址:http://www.micro-graph.com.cn/news/465.html

关键词:纳米压印软模板,纳米微球镍模板,纳米结构复制

最近浏览:

  • 在线客服
  • 联系电话
    18013801415
  • 在线留言
  • 在线咨询
    欢迎给我们留言
    请在此输入留言内容,我们会尽快与您联系。
    姓名
    联系人
    电话
    座机/手机号码
    邮箱
    邮箱
    地址
    地址