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微纳光学元件主要包括衍射光学元件（DOE）、光栅、微透镜阵列以及晶圆级透镜组合（WLO）等。可用在3D传 感（人脸识别）、汽车照明、AR/VR虚拟现实、手机摄像头/闪光灯、机器视觉、智能监控、汽车自动驾驶、 激光整形、医疗器械等众多领域。 使用纳米压印技术加工带有纳米级微孔、微流道的生物芯片，微纳结构紫外压印可以应用在疾病诊断（基因检测、早期癌症筛查等）、药物筛选、环境监测、食品安全、司法鉴定等领域。
纳米印压技术优势
精度高：小线宽优于50纳米；
可实现高深宽比结构的加工；
相对于MEMS工艺或精机加工，纳米压印软模板成本更低，可重复性好；
可实现晶圆级加工和封装；
可实现大面积加工（max面积12寸圆形）；
更容易集成其他MEMS工艺；
材料具有良好的光学和机械性能；
高温老化后可维持原有光学性能和结构精度。
加工参数
架构精度：优于50纳米
尺寸公差：＜±5%（对比母模具结构）
深宽比：可达10：1（取决于不同工艺）
残余层厚度：可小于10纳米（根据工艺和需求）
8英寸片内均匀性：＜±5%
max加工面积：纳米压印设备300mm直径圆形
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