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光刻胶是什么?光刻加工为您大揭底

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光刻胶是什么?光刻加工为您大揭底

发布日期:2018-10-08 作者: 点击:

光刻胶是一大类具有光敏化学作用(或对电子能量敏感)的高分子聚合物材料,是转移紫外曝光或电子束曝照图案的媒介。光刻胶的英文名为resist,又翻译为抗蚀剂、光阻等。广泛应用于集成电路(IC),封装(Packaging),微机电系统(MEMS),光电子器件光子器件(Optoelectronics/Photonics),平板显示器(LED,LCD,OLED),太阳能光伏(Solar PV)等领域。

光刻胶类型:


1.紫外光刻胶(Photoresist)


各种工艺:喷涂专用胶,化学放大胶,lift-off胶,图形反转胶,高分辨率胶,LIGA用胶等。

各种波长: 深紫外(Deep UV)、I线(i-line)、G线(g-line)、长波(longwave)曝光用光刻胶。

各种厚度: 光刻胶厚度可从几十纳米到上百微米。


2. 电子束光刻胶(电子束抗蚀剂)(E-beam resist)


电子束正胶:PMMA胶,PMMA/MA聚合物, LIGA用胶等。

电子束负胶:高分辨率电子束负胶,化学放大胶(高灵敏度电子束胶)等。


3. 特殊工艺用光刻胶(Special manufacture/experimental sample)


电子束曝光导电胶,耐酸碱保护胶,全息光刻用胶,聚酰亚胺胶(耐高温保护胶)等特殊工艺用胶。


4. 配套试剂(Process chemicals)


显影液、除胶剂、稀释剂、增附剂(粘附剂)、定影液等。

光刻加工

本文网址:http://www.micro-graph.com.cn/news/379.html

关键词:紫外光刻胶,光刻胶,光刻胶类型

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