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光刻加工光刻胶的特点有哪些?

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光刻加工光刻胶的特点有哪些?

发布日期:2018-10-08 作者: 点击:

光刻加工光刻胶产品特点:


1. 光刻胶种类齐全,可以满足多种工艺要求的用户。


产品种类包含:各种厚度的紫外光刻胶(正胶或负胶),lift-off工艺用胶,LIGA用胶,图形反转胶,化学放大胶,耐刻蚀保护胶,聚酰亚胺胶,全息曝光用胶,电子束光刻胶(包含PMMA胶、电子束负胶、三维曝光用胶(灰度曝光用胶)、混合曝光用胶等)


2.  光刻胶包装规格灵活多样,适合各种规模的生产、科研需求。


包装规格包含:250毫升、1升、2.5升等常规包装,还提供试验用小包装,如30毫升、100毫升等。


3.  交货时间短。


我们每个月20号左右都会向德国厂商下订单,产品将于二个月中旬到货,您可以根据实际情况,合理安排采购时间。具体的订购情况,请联系我们的销售人员。


4.  可以提供高水准的技术咨询服务,具有为客户开发、定制特殊复杂工艺用光刻产品的能力。


5.  储存条件:


密闭储存在容器中并置于避光、干燥阴凉、通风良好之处。

储存在适当的温度下。

详情请联系我们的销售人员。

光刻加工

本文网址:http://www.micro-graph.com.cn/news/380.html

关键词:光刻胶产品特点,光刻胶,光刻胶种类

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