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纳米压印技术加工过程步骤

纳米压印技术分为三个步骤。第一步是模板的加工。一般使用电子束刻蚀等手段，在硅或其他衬底上加工出所需要的结构作为模板。由于电子的衍射极限远小于光子，因此可以达到远高于光刻的分辨率。第二步是图样的转移。在待加工的材料表面涂上光刻胶
发布时间：2019-09-09 点击次数：833

纳米压印技术的改进和发展

为了改善热压印中热变形的缺点，特克萨斯大学的C.G.willson和S.v.Sreenivasan开发出步进-闪光压印，这种工艺中采用对紫外透明的石英玻璃（硬模）或PDMS（软模），光阻胶采用低粘度，光固
发布时间：2019-09-06 点击次数：275

纳米压印技术简介

纳米压印技术突破了传统光刻在特征尺寸减小过程中的难题，具有分辨率高、低成本、高产率的特点。自1995年提出以来，纳米压印已经经过了14年的发展，演变出了多种压印技术，广泛应用于半导体制造、mems、生物芯片、生物医学等领域。被誉为十大改变人
发布时间：2019-09-05 点击次数：260

三种典型纳米压印技术的工艺方法及其关键技术

三种典型纳米压印技术的工艺方法及其关键技术1.热压印热压印是早开发出的纳米压印技术，相对其他技术，它也是被研究的为充分，应用的为厂泛，是目前纳米压印技术的主
发布时间：2019-09-02 点击次数：1503

紫外压印光刻技术

紫外压印工艺是将单体涂覆的衬底和透明印章装载到对准机中,在真空环境下被固定在各自的卡盘上。当衬底和印章的光学对准完成后,开始接触压印。透过印章的紫外曝光促使压印区域的聚合物发生聚合和固化成型。与热压印技术相比,紫外压印对环境要求更低,
发布时间：2019-08-28 点击次数：312

纳米压印光刻的特点

压印本质上从本质上是一种印刷复制技术，是将模板进行大量复制的技术。压印技术加工技术根据图形尺寸的大小可分为纳米压印技术和模压技术。开始提出的纳米压印技术为热压印纳米技术和室温纳米压印技术。纳米压印是一种全新的纳米图形复制方法。流程图如图1所
发布时间：2019-08-27 点击次数：157

EUV光刻技术前景

在摩尔定律的规律下，以及在如今科学技术快速发展的信息时代，新一代的光刻技术就应该被选择和研究，在当前微电子行业为人关注，而在这些高新技术当中，极紫外光刻与其他技术相比又有明显的优势。极紫外光刻的分辨率至少能达到30nm以下,且更容易收到各集
发布时间：2019-08-15 点击次数：171

光刻技术的分类

电子束光刻电子束光刻技术是微型技术加工发展的关键技术,他在纳米制造领域中起着不可替代的作用。电子束光刻主要是刻画微小的电路图，电路通常是以纳米微单位的。电子束光刻技术不需要掩膜，直接将会聚的电子束斑打在表面涂有光刻胶的衬底上。电子束光刻技术
发布时间：2019-08-12 点击次数：272

光学光刻技术

光学光刻是通过广德照射用投影方法将掩模上的大规模集成电路器件的结构图形画在涂有光刻胶的硅片上，通过光的照射，光刻胶的成分发生化学反应，从而生成电路图。限制成品所能获得的小尺寸与光刻系统能获得的分辨率直接相关，而减小照射光源的波长是提高分辨率
发布时间：2019-08-09 点击次数：179

纳米材料让建筑物“青春长驻”

在清新亮丽、干净整洁的环境中，人们普遍感受到更轻松愉快、工作起来也更专注效率。作为人类生活与工作的主体环境，建筑设施的清洁与维护至关重要。酒店、商场、景点、展馆等建筑的视觉体验更是与其经济效益直接挂钩。因此，人们反复开展清洗、维修、翻新等工
发布时间：2019-08-06 点击次数：83

纳米压印光刻技术及其发展现状

1引言由于经济原因促使半导体业朝着不断缩小特征尺寸方向发展，随之而来的技术进步导致了设备的成本以指数增长。由于成本的增长，人们对纳米压印光刻这一低成本图形转移技术的关注越来越多。通过避免使用昂贵的光源和投影光学系统，纳米压印光
发布时间：2019-08-02 点击次数：1656

光刻技术的原理是什么？

光刻技术的原理集成电路制造中利用光学-化学反应原理和化学、物理刻蚀方法，将电路图形传递到单晶表面或介质层上，形成有效图形窗口或功能图形的工艺技术。随着半导体技术的发展，光刻技术传递图形
发布时间：2019-07-30 点击次数：148

光刻工艺中的关键材料——光刻胶

本期我们介绍光刻胶的性能指标。高性能光刻胶的指标有很多：高灵敏度、高对比度、高分辨率、优良的抗刻蚀能力、长寿命周期，低溶解度、低成本和较高的玻璃化转变温度等。其中，主要衡量光刻胶性能的指标为灵敏度、分辨率和对比度。1光刻胶的灵敏度灵敏度是指
发布时间：2019-07-23 点击次数：375

纳米技术在钢网上的应用

　　纳米技术与微电子技术的主要区别是：纳米技术是以控制单个原子、电子来实现其特定的功能，是利用电子的波动性来工作的;而微电子技术则是通过控制成群的电子来实现其功能，是利用电子的粒子性来工作的。人们研究和开发纳米技术的目的，就是要达到纳米压印
发布时间：2019-07-16 点击次数：137

纳米压印技术的介绍

由于经济原因促使半导体业朝着不断缩小特征尺寸方向发展，随之而来的技术进步导致了设备的成本以指数增长。由于成本的增长，人们对纳米压印光刻这一低成本图形转移技术的关注越来越多。通过避免使用昂贵的光源和投影光学系统，纳米压印光刻比传统光刻方法大大
发布时间：2019-07-15 点击次数：186

纳米压印发展现状

目前，大量的研究机构开展了该技术的研究工作，惠普的研究人员StanWilliams用纳米压印光刻技术做出了线宽45nm的实验存储芯片，StanWilliams是惠普实验室的量子科学研究方向的研究主任，他说："我们正在使用纳米压
发布时间：2019-07-12 点击次数：550

精密仪器“印”出来高端制造的纳米压印技术

在位于城阳区兴阳路上的青岛博士创业园里，宛天巍手里拿着一个巴掌大小的展示板，给客户展示精密仪器印刷术的成果——亚毫米级精密零件。在这个展示板上，精致地排列着各种很小的零部件，看起来只有小拇指甲的十分之一大小。“这些都是我们用纳米压印技术方法
发布时间：2019-07-11 点击次数：464

光刻技术的基本原理与工艺流程

光刻（Lithography）技术是指光刻胶在特殊波长光线或者电子束下发生化学变化，通过曝光、显影、刻蚀等工艺过程，将设计在掩膜上的图形转移到衬底上的图形精细加工技术。据贤集网小编了解其最早应用于集成电路和半导体分立器件的微细加工。可以说，
发布时间：2019-07-05 点击次数：200

微流控芯片反应器：从简单到智能

化学的使命在于创造或改良物质，而合成（synthesis）是必经之路。从中世纪的炼金术开始，人们习惯于在玻璃器皿（烧瓶、烧杯）中操纵反应原料，获得产物，并基于此建立起庞大的合成帝国。然而，面对人类对新物质、新规律的不断需求，传统玻璃
发布时间：2019-01-25 点击次数：368

中国半导体产业因光刻胶失色

我国虽然已成为世界半导体生产大国，但面板产业整体产业链仍较为落后。目前，上游电子化学品（LCD用光刻胶）几乎全部依赖进口，须加快面板产业关键核心材料基础研究与产业化进程，才能支撑我国微电子产业未来发展及“地位”的确立。彩色薄
发布时间：2019-01-25 点击次数：310

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