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微纳代工的技术特点超高精度与微尺度加工精度达到微米甚至纳米级，能制备极小、极精细的结构，满足芯片、MEMS、微流控、光电子器件需求。工艺标准化与专业化拥有成熟、稳定的标准化工艺线（光刻、刻蚀、薄膜、沉积、抛光等），专业化分工，不依赖单一人工
发布时间：2026-03-03 点击次数：1
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在半导体芯片制造中，光刻与刻蚀是两大核心且紧密联动的微纳加工工艺，共同承担着“将设计图案从掩膜版精准转移到晶圆目标材料”的关键任务。二者相辅相成、缺一不可：光刻负责“精准绘图”，在光刻胶上复制出精细图案；刻蚀负责“精准雕刻”，将光刻胶上的图
发布时间：2026-02-05 点击次数：7
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凭借高分辨率+低成本+广基底的综合优势，纳米压印已在半导体、微纳光学、柔性电子、生物医疗、新能源等领域实现产业化应用，是微纳制造的“多面手”：1.半导体领域：先进封装为核心替代传统光刻用于晶圆级封装（WLP）、扇出型封装（FO-
发布时间：2026-02-02 点击次数：8
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芯片加工技术正处于“后摩尔时代”的核心转型期，整体趋势是先进制程微缩+3D立体集成+先进封装异构+材料/架构创新四条主线并行，从“单纯追线宽”转向“性能、能效、成本、良率的综合平衡”，同时国产替代与供应链自主化加
发布时间：2026-01-29 点击次数：8
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光刻技术是芯片加工技术的核心子工艺，也是芯片制造中技术壁垒最高、成本占比最大的关键环节，而芯片加工技术是一套覆盖晶圆制造、芯片封装、测试的完整微纳制造体系，光刻技术深度嵌入芯片加工的前道晶圆制造核心流程，并在后道封装中发挥辅助作用，二者是单
发布时间：2026-01-29 点击次数：6
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紫外压印光刻（UV-NIL）作为纳米压印光刻的主流技术路线，核心优势在于平衡精度与成本，同时存在接触式工艺固有的局限性，具体优缺点如下，贴合技术原理与实际应用场景，与前文光刻技术体系衔接流畅：一、核心优点成本与能耗优势显著：无需复杂光学系统
发布时间：2026-01-23 点击次数：12
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光刻加工可按能量源、工艺特点等维度分类，主流技术类型及核心特性如下，兼顾分类逻辑与实际应用场景，确保与前文技术内容衔接流畅：一、按光源/能量源分类（核心主流分类）深紫外光刻（DUVL）以深紫外光为能量源，核心波长为193nm（ArF
发布时间：2026-01-23 点击次数：9
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光刻加工的关键要素主要包括以下几类，直接影响光刻精度、图案质量及工艺稳定性：1.核心参数（决定分辨率上限）遵循瑞利判据三大参数共同锁定精度上限：光源波长（λ）：波长越短，分辨率越高，是技术迭代的核心方向（如从DU
发布时间：2026-01-23 点击次数：7
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微纳结构制备技术主要分为“自上而下”与“自下而上”两大类，各类技术特点及适用场景如下：一、微纳结构自上而下制备技术（从宏观材料刻蚀至微纳尺度）电子束光刻（EBL）：精度达1nm以上，通过电子束扫描光刻胶形成图案，分辨率极高，适用
发布时间：2026-01-21 点击次数：12
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依托独特的尺度效应与性能优势，微纳结构已广泛渗透到多个前沿领域，核心应用场景如下：电子与微机电系统（MEMS）：承担传感、驱动、控制等关键功能，用于制备微传感器、微泵、微阀、纳米晶体管等器件，应用于消费电子、工业控制、航空航天等领域，推动器
发布时间：2026-01-21 点击次数：5
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微纳结构根据空间维度、尺寸范围及功能特性，微纳结构可形成多维度分类体系，不同类型结构在性能与应用场景上各有侧重。（一）微纳结构按空间维度分类该分类是微纳结构最核心的分类方式，涵盖从零维到多维的完整结构体系，其中零维、一维结构以纳米尺度为主，
发布时间：2026-01-21 点击次数：11
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光刻加工技术核心应用场景光刻技术已从半导体核心工艺延伸至多跨学科领域，成为高端制造的关键支撑，具体场景如下：1.半导体制造这是光刻技术最核心的应用领域。极紫外光刻（EUV）支撑3nm及以下先进制程逻辑芯片的晶体管、金属互连层图形化（如
发布时间：2026-01-16 点击次数：6
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光刻加工技术（Lithography）是微纳制造领域的核心工艺，本质是通过光线或粒子束的选择性照射，将掩膜版上的精密图案转移到基板表面，实现纳米级至微米级结构的精准复刻。其原理类比于印刷技术中的照相制版，却凭借极致的分辨率控制，
发布时间：2026-01-16 点击次数：8
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光刻加工随着全球半导体产业对低碳发展的需求提升，光刻技术正从“高能耗、高污染”向“绿色节能”转型。在光源优化方面，中科院上海光机所研发的全固态深紫外光源，以1微米固体激光器替代传统二氧化碳激光器，使光源体积缩小90%，能耗降低40%；Hig
发布时间：2026-01-13 点击次数：7
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光刻加工技术作为半导体行业的“核心基石”，其应用前景与半导体产业的技术演进、市场需求深度绑定，呈现先进制程精度迭代、成熟制程稳守阵地、封装领域专项突破、国产化多元突围四大核心方向，具体可从以下维度展开：一、先进制程：EUV主导高端逻辑
发布时间：2026-01-13 点击次数：11
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光刻加工是一个多步骤协同的精密过程，每一步骤的精度都会直接影响最终产品质量，典型流程包括以下七个核心环节：基底预处理：对硅片、玻璃等基底进行清洗、烘干和表面改性，去除表面杂质、油污和氧化物，同时通过涂覆黏附剂增强光刻胶与基底的结合力，避免后
发布时间：2025-12-02 点击次数：17
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纳米压印技术的核心优势是“高分辨率+低成本+材料兼容性”，纳米压印技术已渗透到多个高端制造领域：1.半导体与微电子应用：存储器件（如NAND闪存的3D堆叠结构）、微处理器芯片的纳米线结构、射频器件的微纳天线；案例：三星、
发布时间：2025-11-26 点击次数：21
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质量检测是保障光刻效果的关键，需采用多种检测手段全面把控图形质量：尺寸检测：使用扫描电子显微镜（SEM）或原子力显微镜（AFM）测量图形线宽、间距，确保符合设计要求，偏差控制在允许范围内。缺陷检测：采用光学缺陷检测设备，检查胶膜表面有无针孔
发布时间：2025-11-14 点击次数：18
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在光刻加工中，掩膜版（Mask）是用于传递图案信息的关键元件，其材料需具备高透光率、热稳定性、化学惰性和机械强度等特性。以下是常用的掩膜版材料及其特点和应用场景：
一、玻璃基掩膜版材料
1.熔融石英（FusedSilica）
特性
发布时间：2025-06-10 点击次数：10
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光刻技术是集成电路（IC）制造中最关键的工艺之一，用于将电路设计图案从掩膜（Mask）转移到硅片（晶圆）表面的光刻胶层，进而通过刻蚀或离子注入等后续工艺形成器件结构。以下是其在集成电路制造中的具体应用、原理及关键环节的详细解析：一、光刻技术
发布时间：2025-06-09 点击次数：12
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探索光刻技术光刻技术（Lithography）是半导体制造、精密光学器件加工等领域的核心技术，其原理是通过光线（或粒子束）的选择性照射，将掩膜版（Mask）上的图案转移到涂有光刻胶的基板表面，从而实现纳米级至微米级图形的精确复制。以下从技术
发布时间：2025-06-04 点击次数：12
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光刻加工（Photolithography）是半导体制造、微机电系统（MEMS）、印刷电路板（PCB）等精密制造领域的核心技术之一，其原理是通过光线（如紫外线、极紫外光EUV等）照射，将掩膜版（Mask）上的图案转移到涂有光刻胶的基板表面，
发布时间：2025-06-03 点击次数：31
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光刻技术（Photolithography）是一种利用光（如紫外光、极紫外光EUV等）作为“画笔”，在半导体晶圆表面的光敏材料（光刻胶）上“绘制”精细图形的工艺。其核心原理类似“照相洗印”，但精度达到纳米级（1纳米=10
发布时间：2025-05-28 点击次数：22
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基本原理：利用光（紫外线、极紫外光等）透过掩膜版（Mask），将电路设计图案投影到涂有光刻胶的硅片上，通过化学反应选择性刻蚀，实现图案转移。关键流程步骤：晶圆预处理清洗硅片表面，去除杂质和颗粒，确保光刻胶均匀附着。涂覆底涂层（如HMDS）
发布时间：2025-05-27 点击次数：48
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刻工艺是集光学、材料、精密机械于一体的复杂技术，每个步骤的微小偏差都会影响最终芯片性能。通过严格的环境控制、设备校准和工艺优化，结合先进检测手段，才能实现纳米级图形的精确制造。未来，随着EUV、纳米压印（NIL）等技术的普及，光刻工艺将继
发布时间：2025-05-26 点击次数：16
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1.环境控制超净间：需达到Class100（每立方英尺≥0.5μm颗粒≤100个）或更高标准，避免颗粒污染导致图形缺陷。温湿度：温度控制在22±0.1℃，湿度30%-40%，避免光刻胶吸潮或基板热膨胀影响精度。振动与静电：光刻
发布时间：2025-05-26 点击次数：17
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光刻的本质是图形的光学复制与化学刻蚀转移，核心原理可拆解为以下步骤：1.光学成像：将掩膜图形投影到光刻胶光源与掩膜版：使用特定波长的光源（如紫外光UV、深紫外光DUV、极紫外光EUV），通过光学系统（透镜或反射镜）将掩膜版（Mask
发布时间：2025-05-24 点击次数：14
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微纳加工制造电极阵列的质量受多环节因素影响，涵盖设计、材料、工艺参数及环境控制等多个维度。以下从关键影响因素展开分析：一、设计层面因素1.结构参数合理性尺寸与间距：电极尺寸过小（如＜10μm）可能导致光刻胶图形塌陷或金属沉积不均匀；间距
发布时间：2025-05-23 点击次数：13
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1.基底预处理清洗基底：用丙酮、乙醇、去离子水超声清洗，去除油脂和颗粒杂质，确保表面洁净。氧化/钝化（如需）：在硅基底上通过热氧化生长二氧化硅（SiO₂）绝缘层，或通过溅射沉积氮化硅（Si₃N₄）作为绝缘层，厚度通常为几百纳米至微米级
发布时间：2025-05-23 点击次数：16
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纳米压印技术在柔性电子领域有广泛应用，以下是一些主要方面：柔性传感器压力传感器：在柔性衬底上压印纳米级的电极阵列或敏感材料图案，如纳米柱、纳米孔等结构。当受到压力时，这些纳米结构的变形会导致电阻、电容或压电等特性发生变化，从而实现对压力的高
发布时间：2025-05-21 点击次数：18
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纳米压印技术的应用已从实验室走向工业化，尤其在半导体存储芯片、AR光学、柔性电子等领域实现规模化生产。随着模板制备技术（如自组装模板）和设备智能化（如AI参数优化）的突破，其在3nm以下先进制程、量子计算、生物医疗等前沿领域的应用
发布时间：2025-05-21 点击次数：20
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模具缺陷与寿命：纳米级模具易受污染或磨损，影响图案保真度，需开发抗腐蚀材料（如类金刚石涂层）和原位检测技术。气泡与填充不均匀：压印过程中胶层可能残留气泡，或边缘区域填充不足，需优化压力分布和胶层厚度控制。多步套刻精度：复杂器件需多次压印套刻
发布时间：2025-05-20 点击次数：12
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模具制备：利用电子束光刻等技术制作具有纳米级图案的模具（通常为石英、硅或聚合物材质）。压印过程：将模具压在涂有光刻胶（或聚合物薄膜）的基板上，使胶层发生塑性变形或化学反应（如紫外固化），复制模具图案。脱模与图形转移：移除模具后，通过刻蚀或剥
发布时间：2025-05-20 点击次数：13
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光学与光子学超表面透镜：基于纳米天线阵列的平面透镜，厚度仅微米级，可替代传统曲面光学元件，用于手机摄像头、AR/VR设备。结构色技术：通过纳米级图案调控光的散射与干涉，实现不褪色的色彩（如蝴蝶翅膀仿生涂层、环保印刷）。2.能源与环境高效
发布时间：2025-05-19 点击次数：17
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微纳结构的制造依赖高精度加工手段，主要技术包括：光刻技术原理：通过光照射光敏材料，结合刻蚀工艺实现图案转移，如极紫外（EUV）光刻可实现纳米级分辨率。应用：芯片制造（7nm以下制程晶体管）、微纳光学元件（衍射光栅）。自组装技术原理：利用分
发布时间：2025-05-19 点击次数：29
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微纳结构在生物医学领域的应用展现出巨大潜力，但其实际转化仍面临诸多挑战，这些挑战涉及材料科学、生物学、工程学及临床应用等多个维度。以下从核心技术、生物相容性、产业化及监管等方面展开分析：一、材料与技术层面的挑战1.精准制备与可控性难题复杂
发布时间：2025-05-16 点击次数：15
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利用微纳结构的高灵敏度和特异性，实现对生物分子（如DNA、蛋白质、病毒）的精准检测。1.表面增强光谱技术原理：通过纳米颗粒（如金/银纳米粒子）或纳米阵列的局域表面等离子体共振（LSPR）效应，增强分子的拉曼散射或荧光信号。应用：快速
发布时间：2025-05-16 点击次数：20
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电子学领域集成电路：微纳结构可提高芯片的集成度，减小器件尺寸，降低能耗，提升计算速度和性能，推动了电子产品的小型化和高性能化发展。传感器：基于微纳结构的传感器具有高灵敏度、高选择性和快速响应等特点，可用于检测气体、液体中的各种物质，以及测量
发布时间：2025-05-15 点击次数：13
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光刻技术：包括紫外光刻、电子束光刻、极紫外光刻等，通过光刻工艺可以在基底上精确地制作出各种微纳图案和结构，是半导体制造等领域中常用的微纳加工方法。蚀刻技术：有干法蚀刻和湿法蚀刻两种。干法蚀刻利用等离子体等对材料进行刻蚀，具有高精度、可控性好
发布时间：2025-05-15 点击次数：13
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光刻加工是一种高精度的微纳加工技术，在众多领域都有着关键应用，以下是一些主要的应用领域：集成电路制造芯片制造：光刻加工是芯片制造过程中的核心技术，用于在硅片上制作出极其精细的电路图案。从早期的微米级芯片到如今的纳米级芯片，光刻技术的精度不断
发布时间：2025-05-14 点击次数：17
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光刻加工光刻加工是一种利用光的作用将掩膜版上的图形转移到光刻胶上，进而在衬底材料上实现精细图形加工的技术，在集成电路制造、微机电系统、光电子器件等领域有着广泛应用。以下是关于光刻加工的原理、工艺步骤及相关技术的详细介绍：光刻加工原理：光刻加
发布时间：2025-05-14 点击次数：21
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四个主要方面：1、纳米材料：当物质到纳米尺度以后，大约是在0.1—100纳米这个范围空间，物质的性能就会发生突变，出现特殊性能。这种既具不同于原来组成的原子、分子，也不同于宏观的物质的特殊性能构成的材料，即为纳米材料。如果仅仅是尺度达到纳
发布时间：2023-03-06 点击次数：453
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纳米材料：当物质到纳米尺度以后，大约是在0.1—100纳米这个范围空间，物质的性能就会发生突变，出现特殊性能。这种既具不同于原来组成的原子、分子，也不同于宏观的物质的特殊性能构成的材料，即为纳米材料。如果仅仅是尺度达到纳米，而没有特殊性能
发布时间：2023-03-06 点击次数：298
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纳米技术(nanotechnology），也称毫微技术，是研究结构尺寸在1纳米至100纳米范围内材料的性质和应用的一种技术。1981年扫描隧道显微镜发明后，诞生了一门以1到100纳米长度为研究分子世界，纳米压印设备它的目标是直接以原子或分子
发布时间：2023-03-06 点击次数：339
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科学家预言，纳米技术给人类和社会带来的影响将远远超计算机革命。纳米技术的波及范围广泛，从我们使用的电池，到我们穿的衣服，到我们治疗癌症的方法，纳米技术已经深入到我们生活的方方面面。
发布时间：2020-04-28 点击次数：191
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在量子电子器件的研究方面，我国科学家研究了室温单电子隧穿效应，单原子单电子隧道结，高真空STM，室温库仑阻塞效应和高性能光电探测器以及原子夹层型超微量子器件。清华大学已研制出100nm（0.1µm）级MOS器件，研制出一
发布时间：2020-04-20 点击次数：235
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纳米级精度的加工和纳米级表层的加工，即原子和分子的去除、搬迁和重组是纳米技术主要内容之一。纳米加工技术担负着支持科学技术步的重要使命。国防战略发展的需要和纳米级精度产品高利润市场的吸引，促使了纳米加工技术产生并迅速发展。例如，现代武器惯导仪
发布时间：2020-04-17 点击次数：254
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按加工方式，纳米级加工可分为切削加工、磨料加工（分固结磨料和游离磨料）、特种加工和复合加工四类（表4-2）。纳米级加工还可分为传统加工、非传统加工和复合加工。传统加工是指刀具切削加工、固有磨料和游离磨料加工；非传统加工是指利用各种能量对材料
发布时间：2020-04-15 点击次数：386
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模板合成方法中所采用的多孔膜用作模板的材料主要有两种：一种是径迹蚀刻(track-etch)聚合物膜；另一种是多孔Al2O3膜。前者膜孔孔径大小分布较广，且分布不均匀；后者孔率较高，且膜孔孔径大小分布均匀。当然还有其它不少的膜可
发布时间：2020-03-05 点击次数：223
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从衍射积分（傍轴）式中可以看出，对各种衍射屏来说积分核是相同的，衍射场的不同分布是由瞳函数堚0(Q)或光场不等于零的光孔面∑0的形状和大小等两方面的差别而引起的。可能导致光波衍射的障碍物（屏）的品种是多种多样的，凡是使波阵面上的复振幅分布发
发布时间：2019-12-31 点击次数：665
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光在传播过程中，遇到障碍物或小孔时，光将偏离直线传播的路径而绕到障碍物后面传播的现象，叫光的衍射。光的衍射和光的干涉一样证明了光具有波动性。光波遇到障碍物以后会或多或少地偏离几何光学中直线传播定律的现象。几何光学表明，光在均匀媒质中按直线定
发布时间：2019-12-23 点击次数：170
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微纳光学元件主要包括衍射光学元件（DOE）、光栅、微透镜阵列以及晶圆级透镜组合（WLO）等。可用在3D传感（人脸识别）、汽车照明、AR/VR虚拟现实、手机摄像头/闪光灯、机器视觉、智能监控、汽车自动驾驶、激光整形、医疗器械等众多领域。
发布时间：2019-12-10 点击次数：424
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光刻技术实际上是一种精表面加工技术，它借助于一定波长的激光光源以及选择性的化学腐蚀和刻蚀技术把设计的微纳图案转移到硅基板上。但是随着集成电路功能和密度的提升传统的光刻技术已经难以满足当前对线宽越来越小的需求。但是打破衍射极ji限的大型光刻设
发布时间：2019-12-10 点击次数：271
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纳米金属具有特定的电子、光学和磁性性能，早在1970年Possin提出了利用多孔膜作模板制备纳米纤维材料。目前，采用模板法制备的纳米金属希望能应用于三个方面。光学材料：已有研究表明纳米微粒金的形微纳结构热压印状不同决定此材料对
发布时间：2019-11-18 点击次数：206
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纳米结构材料因其具有独特的性能而应用于电子学、光学纳米级图形化衬底压印、机械装置、药物释放和生物化学等方面，近年来掀起了对纳米材料研究的热潮，合成纳米结构材料的许多新方法也相继产生。早在1985年C.R.Martin等人在采用含有纳米微
发布时间：2019-11-11 点击次数：491
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光纤是20世纪的重大科技成就之一。该技术以令人难以置信的速度发展，从1970年的一根低损耗单模光纤至今，光纤已成为全球所广泛使用的通信网络的重要组成部分。光纤也在通信之外的其他微纳结构热压印领域应用，如医学领域的光束分配与传送、机械加工与诊
发布时间：2019-11-07 点击次数：204
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纳米压印技术具有光学曝光的快速、大面积复制的优点，同时这种技术还具有可与电子束直写技术相比拟的纳米级分辨率。纳米压印是机械的压印过程，其分辨率不受光衍射、电子散射等限制，只取决于压印模板的图形以及压印条件。另外纳米压印成本低产量高，且操作简
发布时间：2023-03-11 点击次数：603
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太阳能电池/光电探测器等光电器件研究工作中，光电流是十分重要的一种性能表征的手段。而将光电流现象可视化的显示出来，可以帮助研究材料本身微观结构与光电流的相互关系，为理解材料微纳结构器件研发中电荷传输与复合的过程提供有价值的信息。材料位置与光
发布时间：2019-10-24 点击次数：269
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光刻是指利用光学复制的方法把图形印制在光敏记录材料上，然后通过刻蚀的方法将图形转移到晶圆片上来制作电子电路的技术。其中光刻系统被称为光刻机，带有图形的石英板称为掩膜，光敏记录材料被称为光刻胶或抗蚀剂。
发布时间：2019-10-22 点击次数：796
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以下是纳米生物技术的5种重要应用，包括生物芯片、纳米探针、生物荧光标记、分子马达和分子纳米筛。1、生物芯片生物芯片主要包括2方面：（1）纳米复合材料在生物芯片制备方面的应用，增强核酸、蛋白质与片基间静态与动态粘附力，促进小型化、高分辨率与多
发布时间：2019-10-16 点击次数：266
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以下是纳米生物技术的5种重要应用，包括生物芯片、纳米探针、生物荧光标记。1、生物芯片生物芯片主要包括2方面：（1）纳米复合材料在生物芯片制备方面的应用，增强核酸、蛋白质与片基间静态与动态粘附力，促进小型化、高分辨率与多功能化；（2）拓宽生物
发布时间：2019-10-14 点击次数：271
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纳米压印技术分为三个步骤。第一步是模板的加工。一般使用电子束刻蚀等手段，在硅或其他衬底上加工出所需要的结构作为模板。由于电子的衍射极限远小于光子，因此可以达到远高于光刻的分辨率。第二步是图样的转移。在待加工的材料表面涂上光刻胶
发布时间：2019-09-09 点击次数：1032
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为了改善热压印中热变形的缺点，特克萨斯大学的C.G.willson和S.v.Sreenivasan开发出步进-闪光压印，这种工艺中采用对紫外透明的石英玻璃（硬模）或PDMS（软模），光阻胶采用低粘度，光固
发布时间：2019-09-06 点击次数：359
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纳米压印技术突破了传统光刻在特征尺寸减小过程中的难题，具有分辨率高、低成本、高产率的特点。自1995年提出以来，纳米压印已经经过了14年的发展，演变出了多种压印技术，广泛应用于半导体制造、mems、生物芯片、生物医学等领域。被誉为十大改变人
发布时间：2019-09-05 点击次数：352
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三种典型纳米压印技术的工艺方法及其关键技术1.热压印热压印是早开发出的纳米压印技术，相对其他技术，它也是被研究的为充分，应用的为厂泛，是目前纳米压印技术的主
发布时间：2019-09-02 点击次数：1857
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压印本质上从本质上是一种印刷复制技术，是将模板进行大量复制的技术。压印技术加工技术根据图形尺寸的大小可分为纳米压印技术和模压技术。开始提出的纳米压印技术为热压印纳米技术和室温纳米压印技术。纳米压印是一种全新的纳米图形复制方法。流程图如图1所
发布时间：2019-08-27 点击次数：211
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在摩尔定律的规律下，以及在如今科学技术快速发展的信息时代，新一代的光刻技术就应该被选择和研究，在当前微电子行业为人关注，而在这些高新技术当中，极紫外光刻与其他技术相比又有明显的优势。极紫外光刻的分辨率至少能达到30nm以下,且更容易收到各集
发布时间：2019-08-15 点击次数：239
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1引言由于经济原因促使半导体业朝着不断缩小特征尺寸方向发展，随之而来的技术进步导致了设备的成本以指数增长。由于成本的增长，人们对纳米压印光刻这一低成本图形转移技术的关注越来越多。通过避免使用昂贵的光源和投影光学系统，纳米压印光
发布时间：2019-08-02 点击次数：2194
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微纳米技术（MEMS,nanotechnology）为微机电系统(MEMS)技术和纳米科学技术（nanoscienceandtechnology,nanoST）的简称，是20世纪80年代末在USA、日本等发达国兴起的高新科学技术
发布时间：2019-07-26 点击次数：263
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纳米压印技术是一种新型的微纳加工技术。该技术通过机械转移的手段，达到了很高的分辨率，有望在未来取代传统光刻技术，成为微电子、材料领域的重要加工手段。纳米压印技术分为三个步骤一是模板的加工。一般使用电子束刻蚀等手段，在硅或其他衬底上加工出所需
发布时间：2019-07-22 点击次数：172
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纳米压印技术原理基本一致，只是工艺变得更加简单、实用和廉价。1三种典型纳米压印技术的工艺方法及其关键技术1热压印(Hotembossing)热压印(Hotembossing)是很早开发出的纳米压印技术，相对其他技术，它也是被研究的很
发布时间：2019-07-19 点击次数：458
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由于经济原因促使半导体业朝着不断缩小特征尺寸方向发展，随之而来的技术进步导致了设备的成本以指数增长。由于成本的增长，人们对纳米压印光刻这一低成本图形转移技术的关注越来越多。通过避免使用昂贵的光源和投影光学系统，纳米压印光刻比传统光刻方法大大
发布时间：2019-07-15 点击次数：232
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目前，大量的研究机构开展了该技术的研究工作，惠普的研究人员StanWilliams用纳米压印光刻技术做出了线宽45nm的实验存储芯片，StanWilliams是惠普实验室的量子科学研究方向的研究主任，他说："我们正在使用纳米压
发布时间：2019-07-12 点击次数：608
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在位于城阳区兴阳路上的青岛博士创业园里，宛天巍手里拿着一个巴掌大小的展示板，给客户展示精密仪器印刷术的成果——亚毫米级精密零件。在这个展示板上，精致地排列着各种很小的零部件，看起来只有小拇指甲的十分之一大小。“这些都是我们用纳米压印技术方法
发布时间：2019-07-11 点击次数：522
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纳米压印技术是目前纳米沟道加工的主要技术。传统的光刻技术主要是利用电子和光子改变光刻胶的物理化学性质，进而得到相应的纳米图形。而纳米压印技术则可以在不使用电子和光子的前提下，直接利用物理学机理机械地在光刻胶上构造纳米尺寸图形。正是由于这
发布时间：2019-07-09 点击次数：320
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化学的使命在于创造或改良物质，而合成（synthesis）是必经之路。从中世纪的炼金术
开始，人们习惯于在玻璃器皿（烧瓶、烧杯）中操纵反应原料，获得产物，并基于此建立起
庞大的合成帝国。然而，面对人类对新物质、新规律的不断需求，传统玻璃
发布时间：2019-01-25 点击次数：488
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纳米压印光刻技术的现状目前，大量的研究机构开展了该技术的研究工作，惠普的研究人员StanWilliams用纳米压印光刻技术做出了线宽45nm的实验存储芯片，StanWilliams是惠普实验室的量子科学研究方向的研究主任，他
发布时间：2019-01-25 点击次数：160
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纳米压印技术是目前纳米沟道加工的主要技术。传统的光刻技术主要是利用电子和光子改
变光刻胶的物理化学性质，进而得到相应的纳米图形。而纳米压印技术则可以在不使用电子和
光子的前提下，直接利用物理学机理机械地在光刻胶上构造纳米尺寸图形。正是由
发布时间：2019-01-25 点击次数：651
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1引言由于经济原因促使半导体业朝着不断缩小特征尺寸方向发展，随之而来的技术进步导致了设备的成本以指数增长。由于成本的增长，人们对纳米压印光刻这一低成本图形转移技术的关注越来越多。通过避免使用昂贵的光源和投影光学系统，纳米压印光
发布时间：2019-01-25 点击次数：821
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热压印模板要具备以下条件：（1）高硬度：压模和撤模的过程中不容易变形和受损；
（2）低膨胀系数：避免热膨胀程度不同及高压导致的图形变形；（3）好的抗黏性能：压模时
聚合物能浸润模板表面，撤模时聚合物能与基底分离。
综合上述条件限制，纳
发布时间：2019-08-13 点击次数：268
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纳米压印技术具有光学曝光的快速、大面积复制的优点，同时这种技术还具有可与电子束直写技术相比拟的纳米级分辨率。纳米压印是机械的压印过程，其分辨率不受光衍射、电子散射等限制，只取决于压印模板的图形以及压印条件。另外纳米压印成本低产量高，且操作简
发布时间：2018-10-12 点击次数：189
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纳米压印中的紫外固化压印是什么？紫外固化压印(UV-curableNanoimprintLithograhpy)则是目前综合优势好的压印技
术，它不需要高温、高压条件，加工精度高、加工效率高、对准性好。紫外压印新的一个改
进技术是步
发布时间：2018-10-12 点击次数：958
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纳米压印设备的制作方法背景技术：随着半导体技术及其精密零部件的不断发展，纳米级的技术应用越来越广泛，从而纳米压印设备越来越广泛的应用到各行各业。基于现在市场的需要，加上现阶段纳米压印设备结构单一，自动化程度低，模板定位不准确，压印过程中的压
发布时间：2016-07-27 点击次数：329
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紫外纳米压印胶一般由主体树脂、光引发剂、溶剂以及添加剂等四部分组成，根据主体树脂不同，紫外纳米压印光刻胶一般可分为环氧树脂、乙烯基醚、丙烯酸酯等几类。LGuo研究了一种新型的以环氧硅酮为中间体的紫外固化材料，该环氧硅酮中间体可通过加入乙酸
发布时间：2016-07-27 点击次数：1692
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纳米材料"纳米材料"是一个术语,包括所有纳米材料,包括工程纳米粒子、附带纳米粒子和自然界中存在的纳米物体。纳米为长度单位，1米=10的9次方纳米。纳米材料以生物材料或人类活动的副产品的形式存在于自然界中。例如,血
发布时间：2023-03-11 点击次数：3061
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