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  • 光刻胶的选择是一个复杂的过程

    光刻胶的选择是一个复杂的过程。主要的决定因素是晶圆表面对尺寸的要求。光刻BCM5325MA2KQMG胶首先须具有产生那些所要求尺寸的能力。除了这些,还须有在刻蚀过程中阻挡刻蚀的功能。在阻挡刻蚀的作用中,保持特定厚度的光刻胶层中不
    发布时间:2016-07-27   点击次数:98

  • 光刻胶的生产步骤有哪些?

    光刻胶的生产步骤有哪些1、准备基质:在涂布光阻剂之前,硅片一般要进行处理,需要经过脱水烘培蒸发掉硅片表面的水分,并涂上用来增加光刻胶与硅片表面附着能力的化合物(目前应用的比较多的是六甲基乙硅氮烷(hexa-methyl-disilazane
    发布时间:2016-07-27   点击次数:83

  • 紫外纳米压印胶的分类及研究概况

    紫外纳米压印胶一般由主体树脂、光引发剂、溶剂以及添加剂等四部分组成,根据主体树脂不同,紫外纳米压印光刻胶一般可分为环氧树脂、乙烯基醚、丙烯酸酯等几类。LGuo研究了一种新型的以环氧硅酮为中间体的紫外固化材料,该环氧硅酮中间体可通过加入乙酸
    发布时间:2016-07-27   点击次数:273

  • 纳米压印设备的制作方法

    纳米压印设备的制作方法背景技术:随着半导体技术及其精密零部件的不断发展,纳米级的技术应用越来越广泛,从而纳米压印设备越来越广泛的应用到各行各业。基于现在市场的需要,加上现阶段纳米压印设备结构单一,自动化程度低,模板定位不准确,压印过程中的压
    发布时间:2016-07-27   点击次数:83

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