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光刻技术为你详细介绍光刻技术的产品分类,包括光刻技术下的所有产品的用途、型号、范围、图片、新闻及价格。同时我们还为您精选了光刻技术分类的行业资讯、价格行情、展会信息、图片资料等,在全国地区获得用户好评,欲了解更多详细信息,请点击访问!

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  • [行业动态] 电子束光刻和纳米压印光刻

    根据德布罗意的物质波理论,电子在加速电压作用下获得极高的能量,其波长可以达到0.1埃以下,电子束斑的直径可以降至几纳米。电子束光刻利用电子束作为“光源”,电子束在电磁透镜的作用下偏转,可以在基底的光刻胶上写出自定义的图形。电子束
    发布时间:2019-09-18   点击次数:104

  • [公司新闻] 芯片制造关键技术——光刻技术

    光刻是集成电路重要的加工工艺,在整个芯片制造工艺中,几乎每个工艺的实施,都离不开光刻的技术。光刻也是制造芯片的关键技术,他占芯片制造成本的35%以上。在如今的科技与社会发展中,光刻技术的增长,直接关系到大型计算机的运作等高科技领域。光刻技术
    发布时间:2019-08-26   点击次数:137

  • [行业动态] 紫外压印光刻技术

    紫外压印工艺是将单体涂覆的衬底和透明印章装载到对准机中,在真空环境下被固定在各自的卡盘上。当衬底和印章的光学对准完成后,开始接触压印。透过印章的紫外曝光促使压印区域的聚合物发生聚合和固化成型。与热压印技术相比,紫外压印对环境要求更低,
    发布时间:2019-08-28   点击次数:91

  • [通知公告] 热压印技术

    纳米热压印技术是在微纳米尺度获得并行复制结构的一种成本低而速度快的方法。该技术在高温条件下可以将印章上的结构按需复制到大的表面上,被广泛用于微纳结构加工。整个热压印过程必须在气压小于1Pa的真空环境下进行,以避免由于空气气泡的存在造成
    发布时间:2019-08-22   点击次数:65

  • [公司新闻] 射线光刻掩模

    在后光学光刻的技术中,其主要且困难的技术就是掩模制造技术,其中1:1的光刻非常困难,是妨碍技术发展的难题之一。所以说,我们认为掩模开发是对于其应用于工业发展的重要环节,也是决定成败的关键。在过去的发展中,科学家对其已经得到了巨大的发展,也有
    发布时间:2019-08-19   点击次数:49

  • [通知公告] X射线光刻技术

    1895年,德国物理学家伦琴首先发现了X射线,也因此获得了诺贝尔物理学奖。X射线是一种与其他粒子一样具有波粒二象性的电磁波,可以是重原子能级跃迁或着是加速电子与电磁场耦合辐射的产物。X射线的波长极短,1972年X射线被早提出用于光刻技术上,
    发布时间:2019-08-16   点击次数:95

  • [行业动态] EUV光刻技术前景

    在摩尔定律的规律下,以及在如今科学技术快速发展的信息时代,新一代的光刻技术就应该被选择和研究,在当前微电子行业为人关注,而在这些高新技术当中,极紫外光刻与其他技术相比又有明显的优势。极紫外光刻的分辨率至少能达到30nm以下,且更容易收到各集
    发布时间:2019-08-15   点击次数:59

  • [行业动态] 光刻技术的分类

    电子束光刻电子束光刻技术是微型技术加工发展的关键技术,他在纳米制造领域中起着不可替代的作用。电子束光刻主要是刻画微小的电路图,电路通常是以纳米微单位的。电子束光刻技术不需要掩膜,直接将会聚的电子束斑打在表面涂有光刻胶的衬底上。电子束光刻技术
    发布时间:2019-08-12   点击次数:88

  • [行业动态] 光学光刻技术

    光学光刻是通过广德照射用投影方法将掩模上的大规模集成电路器件的结构图形画在涂有光刻胶的硅片上,通过光的照射,光刻胶的成分发生化学反应,从而生成电路图。限制成品所能获得的小尺寸与光刻系统能获得的分辨率直接相关,而减小照射光源的波长是提高分辨率
    发布时间:2019-08-09   点击次数:81

  • [媒体报道] 芯片升级全靠它,光刻技术到底是个啥?

    光刻是集成电路重要的加工工艺,他的作用,如同金工车间中车床的作用。在整个芯片制造工艺中,几乎每个工艺的实施,都离不开光刻的技术。光刻也是制造芯片的关键技术,他占芯片制造成本的35%以上。在如今的科技与社会发展中,光刻技术的增长,直接关系到大
    发布时间:2019-08-08   点击次数:48

  • [公司新闻] 光刻胶的分类

    光刻胶的技术复杂,品种较多。根据其化学反应机理和显影原理,可分负性胶和正性胶两类。光照后形成不可溶物质的是负性胶;反之,对某些溶剂是不可溶的,经光照后变成可溶物质的即为正性胶。图1是正性胶的显影工艺与负性胶显影工艺对比结果。利用这种性能,将
    发布时间:2019-08-07   点击次数:50

  • [公司新闻] 借助中国传统文化,其实光刻原理就很简单了

    光刻(lithography)是芯片制造中的一项关键技术,也是微纳器件制备过程中不可少的一道工艺,其目的是在晶圆(衬底)上实现芯片设计所要求的图形。Lithography源于希腊语,其中litho,graphy的意思分别是stone,wri
    发布时间:2019-07-31   点击次数:76

  • [行业动态] 光刻技术的原理是什么?

    光刻技术的原理集成电路制造中利用光学-化学反应原理和化学、物理刻蚀方法,将电路图形传递到单晶表面或介质层上,形成有效图形窗口或功能图形的工艺技术。随着半导体技术的发展,光刻技术传递图形
    发布时间:2019-07-30   点击次数:50

  • [媒体报道] 纳米压印技术为什么又叫纳米光刻技术

    微纳米技术(MEMS,nanotechnology)为微机电系统(MEMS)技术和纳米科学技术(nanoscienceandtechnology,nanoST)的简称,是20世纪80年代末在USA、日本等发达国兴起的高新科学技术
    发布时间:2019-07-26   点击次数:64

  • [公司新闻] 中国VS国外!光刻工艺差别在哪?

    作为制造芯片的核心装备,光刻机一直是中国的技术弱项,其技术水平严重制约着中国芯片技术的发展。荷兰ASML公司的光刻机设备处于世界先进水平,日本光刻设备大厂都逐渐被边缘化,国内更是还有很大的差距。那么中国光刻工艺与国外好的公司究然相差多少代技
    发布时间:2019-07-24   点击次数:91

  • [行业动态] 光刻工艺中的关键材料——光刻胶

    本期我们介绍光刻胶的性能指标。高性能光刻胶的指标有很多:高灵敏度、高对比度、高分辨率、优良的抗刻蚀能力、长寿命周期,低溶解度、低成本和较高的玻璃化转变温度等。其中,主要衡量光刻胶性能的指标为灵敏度、分辨率和对比度。1光刻胶的灵敏度灵敏度是指
    发布时间:2019-07-23   点击次数:171

  • [公司新闻] 光刻加工的两道工序介绍

    光刻加工,在精密加工中占的比重虽然不大,但由于其重要性以及不可替代性,越来越受到重视,下面来简单介绍一下光刻加工。  光刻加工是一种主要用于制作集成电路、微型机械等的加工方法。对于高精度微细线条所构
    发布时间:2019-07-18   点击次数:105

  • [媒体报道] 台积电独家代工苹果A13处理器,极紫外光刻技术首次被应用!

    虽然距离苹果的新一代iPhone发布时间还有很长时间,但春节期间已经有产业链透露关于新一代iPhone的相关信息,在命名方面有可能继续采用2018年的三款产品名称——iPhoneXR、iPhoneXS以及iPhoneXSMax,但是
    发布时间:2019-07-10   点击次数:51

  • [公司新闻] 光刻技术概述及光刻技术的原理

    光刻是集成电路重要的加工工艺,他的作用,如同金工车间中车床的作用。在整个芯片制造工艺中,几乎每个工艺的实施,都离不开光刻的技术。光刻也是制造芯片的关键技术,他占芯片制造成本的35%以上。在如今的科技与社会发展中,光刻技术的增长,直接关系到大
    发布时间:2019-07-04   点击次数:33

  • [通知公告] 纳米压印光刻技术的现状

    纳米压印光刻技术的现状目前,大量的研究机构开展了该技术的研究工作,惠普的研究人员StanWilliams用纳米压印光刻技术做出了线宽45nm的实验存储芯片,StanWilliams是惠普实验室的量子科学研究方向的研究主任,他
    发布时间:2019-01-25   点击次数:54

  • [公司新闻] 纳米压印公司为您解析纳米压印光刻加工技术

    1引言由于经济原因促使半导体业朝着不断缩小特征尺寸方向发展,随之而来的技术进步导致了设备的成本以指数增长。由于成本的增长,人们对纳米压印光刻这一低成本图形转移技术的关注越来越多。通过避免使用昂贵的光源和投影光学系统,纳米压印光
    发布时间:2019-01-25   点击次数:284

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