新闻中心-无锡鼎元纳米科技有限公司_第5页

您好，欢迎访问光刻加工,纳米压印,微纳结构-无锡鼎元纳米科技有限公司官网！

联系我们 |

在线留言 |

首页 >> 新闻中心

新闻中心

产品分类

联系我们

企业名称：

联系人：

电话：

手机：

邮箱：

传真：

地址：

网址 : www.micro-graph.com.cn

新闻中心

您的当前位置：首页 >> 新闻中心

了解纳米生物技术的基本原理

以下是纳米生物技术的5种重要应用，包括生物芯片、纳米探针、生物荧光标记。1、生物芯片生物芯片主要包括2方面：（1）纳米复合材料在生物芯片制备方面的应用，增强核酸、蛋白质与片基间静态与动态粘附力，促进小型化、高分辨率与多功能化；（2）拓宽生物
发布时间：2019-10-14 点击次数：288

应用生物芯片技术的意义

基因芯片用途广泛，在生命科学研究及实践、医学科研及临床、药物设计、环境保护、农业、军事等各个领域有着广泛的用武之地。这些无疑将会产生巨大的社会和经济效益。有着广泛的经济、社会及科研前景。因此，国际上一些政治家，投
发布时间：2019-10-12 点击次数：251

对于生物芯片技术的社会前景你了解多少？

基因芯片用途广泛，在生命科学研究及实践、医学科研及临床、药物设计、环境保护、农业、军事等各个领域有着广泛的用武之地。这些无疑将会产生巨大的社会和经济效益。有着广泛的经济、社会及科研前景。因此，国际上一些政治家，投资者和科学家均看好这一技术前
发布时间：2019-10-11 点击次数：304

生物芯片技术研究背景

原定于2005年竣工的人类30亿碱基序列的测定工作（HumanGenomeProject，基因组计划）由于高效测序仪的引入和商业机构的介入已经完成。怎样利用该计划所揭示的大量遗传信息去探明人类众多疾病的起因和
发布时间：2019-09-25 点击次数：189

生物芯片开发的发展历史

自从1996年美国Affymetrix公司成功的制作出世界上首批用于药物筛选和实验室试验用的生物芯片，并制作出芯片系统，此后世界各国在芯片研究方面突飞猛进，不断有新的突破。美国的Hyseq公司、Syntexi公司
发布时间：2019-09-23 点击次数：240

生物芯片技术的简介

生物芯片（biochip）是指采用光导原位合成或微量点样等方法，将大量生物大分子比如核酸片段、多肽分子甚至组织切片、细胞等等生物样品有序地固化于支持物的表面，组成密集二维分子排列，然后与已标记的待测生物样品中靶分子杂交，通过特定
发布时间：2019-09-20 点击次数：257

电子束光刻和纳米压印光刻

根据德布罗意的物质波理论，电子在加速电压作用下获得极高的能量，其波长可以达到0.1埃以下，电子束斑的直径可以降至几纳米。电子束光刻利用电子束作为“光源”，电子束在电磁透镜的作用下偏转，可以在基底的光刻胶上写出自定义的图形。电子束
发布时间：2019-09-18 点击次数：350

光刻技术的原理

光刻加工（lithography）是芯片制造中的一项关键技术，也是微纳器件制备过程中必不可少的一道工艺，其目的是在晶圆（衬底）上实现芯片设计所要求的图形。Lithography源于希腊语，其中litho，grap
发布时间：2019-09-17 点击次数：297

光刻胶是光刻工艺中的关键材料

1光刻胶的灵敏度灵敏度是指单位面积上入射的使光刻胶全部发生反应的min光能量（对紫外光刻胶而言）或min电荷量（对电子束光刻胶而言）。数值越小表明灵敏度越高，曝光所需的剂量相应越小，曝光过程越快。通常负胶的灵敏度要高于正胶。灵敏度太低会影响
发布时间：2019-09-11 点击次数：401

纳米压印技术加工过程步骤

纳米压印技术分为三个步骤。第一步是模板的加工。一般使用电子束刻蚀等手段，在硅或其他衬底上加工出所需要的结构作为模板。由于电子的衍射极限远小于光子，因此可以达到远高于光刻的分辨率。第二步是图样的转移。在待加工的材料表面涂上光刻胶
发布时间：2019-09-09 点击次数：1058

纳米压印技术的改进和发展

为了改善热压印中热变形的缺点，特克萨斯大学的C.G.willson和S.v.Sreenivasan开发出步进-闪光压印，这种工艺中采用对紫外透明的石英玻璃（硬模）或PDMS（软模），光阻胶采用低粘度，光固
发布时间：2019-09-06 点击次数：374

纳米压印技术简介

纳米压印技术突破了传统光刻在特征尺寸减小过程中的难题，具有分辨率高、低成本、高产率的特点。自1995年提出以来，纳米压印已经经过了14年的发展，演变出了多种压印技术，广泛应用于半导体制造、mems、生物芯片、生物医学等领域。被誉为十大改变人
发布时间：2019-09-05 点击次数：385

三种典型纳米压印技术的工艺方法及其关键技术

三种典型纳米压印技术的工艺方法及其关键技术1.热压印热压印是早开发出的纳米压印技术，相对其他技术，它也是被研究的为充分，应用的为厂泛，是目前纳米压印技术的主
发布时间：2019-09-02 点击次数：1876

微纳结构与光电器件的关系

微纳结构与光电器件的关系结合微纳光电器件的应用需求，通过数值计算和功能模拟实验，开发具有新型结构和功能的微光元件，提升微纳结构器件的光电特性和潜在应用；在分子与原子尺度上对纳米光电器件的物理化学结构、光电子传输与转换的动力学过程和机理开展研
发布时间：2019-08-30 点击次数：349

微纳结构增材制造工艺

日前，国家重点研发计划——微纳结构增材制造工艺与装备项目启动会在上海世博中心隆重召开。上海普利生机电科技有限公司(以下简称普利生)作为项目牵头单位联合东南大学、中国科学技术大学、华中科技大学、华东理工大学、南京大学、南京航空航天大学、长春理
发布时间：2019-08-29 点击次数：181

紫外压印光刻技术

紫外压印工艺是将单体涂覆的衬底和透明印章装载到对准机中,在真空环境下被固定在各自的卡盘上。当衬底和印章的光学对准完成后,开始接触压印。透过印章的紫外曝光促使压印区域的聚合物发生聚合和固化成型。与热压印技术相比,紫外压印对环境要求更低,
发布时间：2019-08-28 点击次数：465

纳米压印光刻的特点

压印本质上从本质上是一种印刷复制技术，是将模板进行大量复制的技术。压印技术加工技术根据图形尺寸的大小可分为纳米压印技术和模压技术。开始提出的纳米压印技术为热压印纳米技术和室温纳米压印技术。纳米压印是一种全新的纳米图形复制方法。流程图如图1所
发布时间：2019-08-27 点击次数：231

芯片制造关键技术——光刻技术

光刻是集成电路重要的加工工艺，在整个芯片制造工艺中，几乎每个工艺的实施，都离不开光刻的技术。光刻也是制造芯片的关键技术，他占芯片制造成本的35%以上。在如今的科技与社会发展中，光刻技术的增长，直接关系到大型计算机的运作等高科技领域。光刻技术
发布时间：2019-08-26 点击次数：318

热压印技术

纳米热压印技术是在微纳米尺度获得并行复制结构的一种成本低而速度快的方法。该技术在高温条件下可以将印章上的结构按需复制到大的表面上,被广泛用于微纳结构加工。整个热压印过程必须在气压小于1Pa的真空环境下进行,以避免由于空气气泡的存在造成
发布时间：2019-08-22 点击次数：595

射线光刻掩模

在后光学光刻的技术中，其主要且困难的技术就是掩模制造技术，其中1：1的光刻非常困难，是妨碍技术发展的难题之一。所以说，我们认为掩模开发是对于其应用于工业发展的重要环节，也是决定成败的关键。在过去的发展中，科学家对其已经得到了巨大的发展，也有
发布时间：2019-08-19 点击次数：200

共152条每页20条页次：5/8

首页上一页 1 2 3 456 7 8 下一页尾页

何经理

17853121638

在线咨询

何经理

欢迎给我们留言