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光刻胶材料的制备和基本要素

光刻胶是微电子技术中微细图形加工的关键材料之一，特别是近年来大规模和很大规模集成电路的发展，更是大大帮助了光刻胶的研究开发和应用。印刷工业是光刻胶应用的另一重要领域。1954年由明斯克等人首先研究成功的聚乙烯醇肉桂酸脂就是用于印刷工业的，
发布时间：2017-12-14 点击次数：230

光刻胶国产化道路:任重道远

光刻胶:用化学反应进行图像转移的媒介光刻胶具有光化学敏感性，其经过曝光、显影、刻蚀等工艺，可以将设计好的微细图形从掩膜版转移到待加工基片。光刻胶产业链光刻胶和集成电路制造产业链的前端的即为光刻胶专用化学品，生产而得的不同类型的光刻胶被应用于
发布时间：2016-07-27 点击次数：179

我国半导体之殇--光刻机与光刻胶

我国半导体之殇--光刻机与光刻胶光刻胶是由感光树脂、增感剂和溶剂等主要成分组成的对光敏感的混合液体。在紫外光、深紫外光、电子束、离子束等光照或辐射下，进行光化学反应，经曝光、显影等过程，将所需要的微细图形从掩模版转移至待加工的衬底上，然后进
发布时间：2016-07-27 点击次数：205

光刻胶的选择是一个复杂的过程

光刻胶的选择是一个复杂的过程。主要的决定因素是晶圆表面对尺寸的要求。光刻BCM5325MA2KQMG胶首先须具有产生那些所要求尺寸的能力。除了这些，还须有在刻蚀过程中阻挡刻蚀的功能。在阻挡刻蚀的作用中，保持特定厚度的光刻胶层中不
发布时间：2016-07-27 点击次数：346

光刻胶的生产步骤有哪些？

光刻胶的生产步骤有哪些1、准备基质：在涂布光阻剂之前，硅片一般要进行处理，需要经过脱水烘培蒸发掉硅片表面的水分，并涂上用来增加光刻胶与硅片表面附着能力的化合物（目前应用的比较多的是六甲基乙硅氮烷（hexa-methyl-disilazane
发布时间：2016-07-27 点击次数：291

紫外纳米压印胶的分类及研究概况

紫外纳米压印胶一般由主体树脂、光引发剂、溶剂以及添加剂等四部分组成，根据主体树脂不同，紫外纳米压印光刻胶一般可分为环氧树脂、乙烯基醚、丙烯酸酯等几类。LGuo研究了一种新型的以环氧硅酮为中间体的紫外固化材料，该环氧硅酮中间体可通过加入乙酸
发布时间：2016-07-27 点击次数：1247

纳米压印设备的制作方法

纳米压印设备的制作方法背景技术：随着半导体技术及其精密零部件的不断发展，纳米级的技术应用越来越广泛，从而纳米压印设备越来越广泛的应用到各行各业。基于现在市场的需要，加上现阶段纳米压印设备结构单一，自动化程度低，模板定位不准确，压印过程中的压
发布时间：2016-07-27 点击次数：247

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