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X射线光刻技术

1895年，德国物理学家伦琴首先发现了X射线，也因此获得了诺贝尔物理学奖。X射线是一种与其他粒子一样具有波粒二象性的电磁波，可以是重原子能级跃迁或着是加速电子与电磁场耦合辐射的产物。X射线的波长极短，1972年X射线被早提出用于光刻技术上，
发布时间：2019-08-16 点击次数：363

EUV光刻技术前景

在摩尔定律的规律下，以及在如今科学技术快速发展的信息时代，新一代的光刻技术就应该被选择和研究，在当前微电子行业为人关注，而在这些高新技术当中，极紫外光刻与其他技术相比又有明显的优势。极紫外光刻的分辨率至少能达到30nm以下,且更容易收到各集
发布时间：2019-08-15 点击次数：261

热压印模板要具备什么条件？

热压印模板要具备以下条件：（1）高硬度：压模和撤模的过程中不容易变形和受损；（2）低膨胀系数：避免热膨胀程度不同及高压导致的图形变形；（3）好的抗黏性能：压模时聚合物能浸润模板表面，撤模时聚合物能与基底分离。综合上述条件限制，纳
发布时间：2019-08-13 点击次数：288

光刻技术的分类

电子束光刻电子束光刻技术是微型技术加工发展的关键技术,他在纳米制造领域中起着不可替代的作用。电子束光刻主要是刻画微小的电路图，电路通常是以纳米微单位的。电子束光刻技术不需要掩膜，直接将会聚的电子束斑打在表面涂有光刻胶的衬底上。电子束光刻技术
发布时间：2019-08-12 点击次数：366

光学光刻技术

光学光刻是通过广德照射用投影方法将掩模上的大规模集成电路器件的结构图形画在涂有光刻胶的硅片上，通过光的照射，光刻胶的成分发生化学反应，从而生成电路图。限制成品所能获得的小尺寸与光刻系统能获得的分辨率直接相关，而减小照射光源的波长是提高分辨率
发布时间：2019-08-09 点击次数：234

芯片升级全靠它，光刻技术到底是个啥？

光刻是集成电路重要的加工工艺，他的作用，如同金工车间中车床的作用。在整个芯片制造工艺中，几乎每个工艺的实施，都离不开光刻的技术。光刻也是制造芯片的关键技术，他占芯片制造成本的35%以上。在如今的科技与社会发展中，光刻技术的增长，直接关系到大
发布时间：2019-08-08 点击次数：215

光刻胶的分类

光刻胶的技术复杂，品种较多。根据其化学反应机理和显影原理，可分负性胶和正性胶两类。光照后形成不可溶物质的是负性胶；反之，对某些溶剂是不可溶的，经光照后变成可溶物质的即为正性胶。图1是正性胶的显影工艺与负性胶显影工艺对比结果。利用这种性能，将
发布时间：2019-08-07 点击次数：233

纳米材料让建筑物“青春长驻”

在清新亮丽、干净整洁的环境中，人们普遍感受到更轻松愉快、工作起来也更专注效率。作为人类生活与工作的主体环境，建筑设施的清洁与维护至关重要。酒店、商场、景点、展馆等建筑的视觉体验更是与其经济效益直接挂钩。因此，人们反复开展清洗、维修、翻新等工
发布时间：2019-08-06 点击次数：132

纳米压印光刻技术及其发展现状

1引言由于经济原因促使半导体业朝着不断缩小特征尺寸方向发展，随之而来的技术进步导致了设备的成本以指数增长。由于成本的增长，人们对纳米压印光刻这一低成本图形转移技术的关注越来越多。通过避免使用昂贵的光源和投影光学系统，纳米压印光
发布时间：2019-08-02 点击次数：2228

借助中国传统文化，其实光刻原理就很简单了

光刻（lithography）是芯片制造中的一项关键技术，也是微纳器件制备过程中不可少的一道工艺，其目的是在晶圆（衬底）上实现芯片设计所要求的图形。Lithography源于希腊语，其中litho，graphy的意思分别是stone，wri
发布时间：2019-07-31 点击次数：395

光刻技术的原理是什么？

光刻技术的原理集成电路制造中利用光学-化学反应原理和化学、物理刻蚀方法，将电路图形传递到单晶表面或介质层上，形成有效图形窗口或功能图形的工艺技术。随着半导体技术的发展，光刻技术传递图形
发布时间：2019-07-30 点击次数：203

纳米压印技术为什么又叫纳米光刻技术

微纳米技术（MEMS,nanotechnology）为微机电系统(MEMS)技术和纳米科学技术（nanoscienceandtechnology,nanoST）的简称，是20世纪80年代末在USA、日本等发达国兴起的高新科学技术
发布时间：2019-07-26 点击次数：282

中国VS国外！光刻工艺差别在哪？

作为制造芯片的核心装备，光刻机一直是中国的技术弱项,其技术水平严重制约着中国芯片技术的发展。荷兰ASML公司的光刻机设备处于世界先进水平，日本光刻设备大厂都逐渐被边缘化，国内更是还有很大的差距。那么中国光刻工艺与国外好的公司究然相差多少代技
发布时间：2019-07-24 点击次数：223

光刻工艺中的关键材料——光刻胶

本期我们介绍光刻胶的性能指标。高性能光刻胶的指标有很多：高灵敏度、高对比度、高分辨率、优良的抗刻蚀能力、长寿命周期，低溶解度、低成本和较高的玻璃化转变温度等。其中，主要衡量光刻胶性能的指标为灵敏度、分辨率和对比度。1光刻胶的灵敏度灵敏度是指
发布时间：2019-07-23 点击次数：537

纳米压印技术的发展和加工过程

纳米压印技术是一种新型的微纳加工技术。该技术通过机械转移的手段，达到了很高的分辨率，有望在未来取代传统光刻技术，成为微电子、材料领域的重要加工手段。纳米压印技术分为三个步骤一是模板的加工。一般使用电子束刻蚀等手段，在硅或其他衬底上加工出所需
发布时间：2019-07-22 点击次数：202

纳米压印技术的基本方法

纳米压印技术原理基本一致，只是工艺变得更加简单、实用和廉价。1三种典型纳米压印技术的工艺方法及其关键技术1热压印(Hotembossing)热压印(Hotembossing)是很早开发出的纳米压印技术，相对其他技术，它也是被研究的很
发布时间：2019-07-19 点击次数：489

光刻加工的两道工序介绍

光刻加工，在精密加工中占的比重虽然不大，但由于其重要性以及不可替代性，越来越受到重视，下面来简单介绍一下光刻加工。　　光刻加工是一种主要用于制作集成电路、微型机械等的加工方法。对于高精度微细线条所构
发布时间：2019-07-18 点击次数：409

纳米技术在钢网上的应用

　　纳米技术与微电子技术的主要区别是：纳米技术是以控制单个原子、电子来实现其特定的功能，是利用电子的波动性来工作的;而微电子技术则是通过控制成群的电子来实现其功能，是利用电子的粒子性来工作的。人们研究和开发纳米技术的目的，就是要达到纳米压印
发布时间：2019-07-16 点击次数：196

纳米压印技术的介绍

由于经济原因促使半导体业朝着不断缩小特征尺寸方向发展，随之而来的技术进步导致了设备的成本以指数增长。由于成本的增长，人们对纳米压印光刻这一低成本图形转移技术的关注越来越多。通过避免使用昂贵的光源和投影光学系统，纳米压印光刻比传统光刻方法大大
发布时间：2019-07-15 点击次数：253

纳米压印发展现状

目前，大量的研究机构开展了该技术的研究工作，惠普的研究人员StanWilliams用纳米压印光刻技术做出了线宽45nm的实验存储芯片，StanWilliams是惠普实验室的量子科学研究方向的研究主任，他说："我们正在使用纳米压
发布时间：2019-07-12 点击次数：621

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