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光刻胶国产化道路:任重道远
我国半导体之殇--光刻机与...
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精密仪器“印”出来 高端制造的纳米压印技术
在位于城阳区兴阳路上的青岛博士创业园里,宛天巍手里拿着一个巴掌大小的展示板,给客户展示精密仪器印刷术的成果——亚毫米级精密零件。在这个展示板上,精致地排列着各种很小的零部件,看起来只有小拇指甲的十分之一大小。“这些都是我们用纳米压印技术方法
发布时间:2019-07-11 点击次数:547
光刻技术的基本原理与工艺流程
光刻(Lithography)技术是指光刻胶在特殊波长光线或者电子束下发生化学变化,通过曝光、显影、刻蚀等工艺过程,将设计在掩膜上的图形转移到衬底上的图形精细加工技术。据贤集网小编了解其最早应用于集成电路和半导体分立器件的微细加工。可以说,
发布时间:2019-07-05 点击次数:257
微流控芯片反应器:从简单到智能
化学的使命在于创造或改良物质,而合成(synthesis)是必经之路。从中世纪的炼金术 开始,人们习惯于在玻璃器皿(烧瓶、烧杯)中操纵反应原料,获得产物,并基于此建立起 庞大的合成帝国。然而,面对人类对新物质、新规律的不断需求,传统玻璃
发布时间:2019-01-25 点击次数:509
中国半导体产业因光刻胶失色
我国虽然已成为世界半导体生产大国,但 面板产业整体产业链仍较为落后。 目前,上游电子化学品(LCD用光刻胶)几乎全部依赖进口,须加快面板产业关键核心材 料基础研究与产业化进程,才能支撑我国微电子产业未来发展及“地位”的确立。 彩色薄
发布时间:2019-01-25 点击次数:444
光刻加工光刻胶材料有哪些?
光刻加工光刻胶材料有哪些?大家听多了光刻机、蚀刻机以及nm工艺这样的术语,对光刻胶还是十分陌生的。买回来的硅圆片经过检查无破损后即可投入生产线上,前期可能还有各种成膜工艺,然后就进入到涂抹光刻胶环节。微 影光刻工艺是一种图形影
发布时间:2019-01-25 点击次数:783
光刻加工工艺的评价标准
光刻加工工艺的评价标准一个集成电路的制造过程(processflow)是由许多工艺单元(unitprocess)构成的, 每一个工艺单元的输出就是下一个工艺单元的输入。工艺单元之间的衔接和整合是由工艺集成 (processinte
发布时间:2019-01-25 点击次数:878
光刻胶的选择是一个复杂的过程
光刻胶的选择是一个复杂的过程。主要的决定因素是晶圆表面对尺寸的要求。光刻BCM5325MA2KQMG胶首先须具有产生那些所要求尺寸的能力。除了这些,还须有在刻蚀过程中阻挡刻蚀的功能。在阻挡刻蚀的作用中,保持特定厚度的光刻胶层中不
发布时间:2016-07-27 点击次数:472
光刻胶的生产步骤有哪些?
光刻胶的生产步骤有哪些1、准备基质:在涂布光阻剂之前,硅片一般要进行处理,需要经过脱水烘培蒸发掉硅片表面的水分,并涂上用来增加光刻胶与硅片表面附着能力的化合物(目前应用的比较多的是六甲基乙硅氮烷(hexa-methyl-disilazane
发布时间:2016-07-27 点击次数:421
紫外纳米压印胶的分类及研究概况
紫外纳米压印胶一般由主体树脂、光引发剂、溶剂以及添加剂等四部分组成,根据主体树脂不同,紫外纳米压印光刻胶一般可分为环氧树脂、乙烯基醚、丙烯酸酯等几类。LGuo研究了一种新型的以环氧硅酮为中间体的紫外固化材料,该环氧硅酮中间体可通过加入乙酸
发布时间:2016-07-27 点击次数:1724
纳米压印设备的制作方法
纳米压印设备的制作方法背景技术:随着半导体技术及其精密零部件的不断发展,纳米级的技术应用越来越广泛,从而纳米压印设备越来越广泛的应用到各行各业。基于现在市场的需要,加上现阶段纳米压印设备结构单一,自动化程度低,模板定位不准确,压印过程中的压
发布时间:2016-07-27 点击次数:355
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