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微纳结构的制造依赖高精度加工手段，主要技术包括：
光刻技术
原理：通过光照射光敏材料，结合刻蚀工艺实现图案转移，如极紫外（EUV）光刻可实现纳米级分辨率。
应用：芯片制造（7nm 以下制程晶体管）、微纳光学元件（衍射光栅）。
自组装技术
原理：利用分子间作用力（如氢键、范德华力）使纳米单元自发排列成有序结构（如 DNA 自组装纳米机器人）。
优势：低成本、大面积制备，适用于柔性电子与生物医学领域。
纳米压印技术
原理：通过模具压印将图案复制到基材上，可批量生产纳米结构（如纳米压印光刻制造 OLED 偏振片）。
特点：效率高、成本低，适合工业化生产。
电子束 / 离子束加工
原理：利用高能电子束或离子束直接雕刻材料表面（如电子束写入制造纳米天线）。
精度：可达亚纳米级，用于科研与高精密器件研发。
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