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光刻胶国产化道路:任重道远
我国半导体之殇--光刻机与...
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纳米压印设备的制作方法
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光刻加工
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分类:
高刻蚀比光刻胶
分类:
服务项目
产品编号:1559700259
浏览次数:393
关键词:
光刻加工厂家
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光刻胶
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光刻胶厂家
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行业动态
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什么是光刻技术,为什么对芯片制造至关重要?
光刻技术(Photolithography)是一种利用光(如紫外光、极紫外光EUV等)作为“画笔”,在半导体晶圆表面的光敏材料(光刻胶)上“绘制”精细图形的工艺。其核心原理类似“照相洗印”,但精度达到纳米级(1纳米=10
发布时间:2025-05-28 点击次数:6
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行业动态
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芯片制造的核心工艺---光刻加工
基本原理:利用光(紫外线、极紫外光等)透过掩膜版(Mask),将电路设计图案投影到涂有光刻胶的硅片上,通过化学反应选择性刻蚀,实现图案转移。关键流程步骤:晶圆预处理清洗硅片表面,去除杂质和颗粒,确保光刻胶均匀附着。涂覆底涂层(如HMDS)
发布时间:2025-05-27 点击次数:11
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行业动态
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光刻工艺挑战与趋势
刻工艺是集光学、材料、精密机械于一体的复杂技术,每个步骤的微小偏差都会影响最终芯片性能。通过严格的环境控制、设备校准和工艺优化,结合先进检测手段,才能实现纳米级图形的精确制造。未来,随着EUV、纳米压印(NIL)等技术的普及,光刻工艺将继
发布时间:2025-05-26 点击次数:5
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行业动态
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光刻工艺关键注意事项
1.环境控制超净间:需达到Class100(每立方英尺≥0.5μm颗粒≤100个)或更高标准,避免颗粒污染导致图形缺陷。温湿度:温度控制在22±0.1℃,湿度30%-40%,避免光刻胶吸潮或基板热膨胀影响精度。振动与静电:光刻
发布时间:2025-05-26 点击次数:7
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行业动态
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光刻技术的原理和方法
光刻的本质是图形的光学复制与化学刻蚀转移,核心原理可拆解为以下步骤:1.光学成像:将掩膜图形投影到光刻胶光源与掩膜版:使用特定波长的光源(如紫外光UV、深紫外光DUV、极紫外光EUV),通过光学系统(透镜或反射镜)将掩膜版(Mask
发布时间:2025-05-24 点击次数:4
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行业动态
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哪些因素会影响微纳加工制造电极阵列的质量?
微纳加工制造电极阵列的质量受多环节因素影响,涵盖设计、材料、工艺参数及环境控制等多个维度。以下从关键影响因素展开分析:一、设计层面因素1.结构参数合理性尺寸与间距:电极尺寸过小(如<10μm)可能导致光刻胶图形塌陷或金属沉积不均匀;间距
发布时间:2025-05-23 点击次数:7
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行业动态
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如何通过微纳加工制造电极阵列 ?
1.基底预处理清洗基底:用丙酮、乙醇、去离子水超声清洗,去除油脂和颗粒杂质,确保表面洁净。氧化/钝化(如需):在硅基底上通过热氧化生长二氧化硅(SiO₂)绝缘层,或通过溅射沉积氮化硅(Si₃N₄)作为绝缘层,厚度通常为几百纳米至微米级
发布时间:2025-05-23 点击次数:5
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行业动态
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纳米压印技术在柔性电子领域的应用有哪些?
纳米压印技术在柔性电子领域有广泛应用,以下是一些主要方面:柔性传感器压力传感器:在柔性衬底上压印纳米级的电极阵列或敏感材料图案,如纳米柱、纳米孔等结构。当受到压力时,这些纳米结构的变形会导致电阻、电容或压电等特性发生变化,从而实现对压力的高
发布时间:2025-05-21 点击次数:8
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行业动态
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纳米压印技术的应用案例有哪些?
纳米压印技术的应用已从实验室走向工业化,尤其在半导体存储芯片、AR光学、柔性电子等领域实现规模化生产。随着模板制备技术(如自组装模板)和设备智能化(如AI参数优化)的突破,其在3nm以下先进制程、量子计算、生物医疗等前沿领域的应用
发布时间:2025-05-21 点击次数:11
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行业动态
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纳米压印发展趋势
模具缺陷与寿命:纳米级模具易受污染或磨损,影响图案保真度,需开发抗腐蚀材料(如类金刚石涂层)和原位检测技术。气泡与填充不均匀:压印过程中胶层可能残留气泡,或边缘区域填充不足,需优化压力分布和胶层厚度控制。多步套刻精度:复杂器件需多次压印套刻
发布时间:2025-05-20 点击次数:4
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行业动态
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纳米压印原理
模具制备:利用电子束光刻等技术制作具有纳米级图案的模具(通常为石英、硅或聚合物材质)。压印过程:将模具压在涂有光刻胶(或聚合物薄膜)的基板上,使胶层发生塑性变形或化学反应(如紫外固化),复制模具图案。脱模与图形转移:移除模具后,通过刻蚀或剥
发布时间:2025-05-20 点击次数:5
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媒体报道
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微纳结构的前沿应用场景
光学与光子学超表面透镜:基于纳米天线阵列的平面透镜,厚度仅微米级,可替代传统曲面光学元件,用于手机摄像头、AR/VR设备。结构色技术:通过纳米级图案调控光的散射与干涉,实现不褪色的色彩(如蝴蝶翅膀仿生涂层、环保印刷)。2.能源与环境高效
发布时间:2025-05-19 点击次数:8
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行业动态
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微纳结构的制备技术
微纳结构的制造依赖高精度加工手段,主要技术包括:光刻技术原理:通过光照射光敏材料,结合刻蚀工艺实现图案转移,如极紫外(EUV)光刻可实现纳米级分辨率。应用:芯片制造(7nm以下制程晶体管)、微纳光学元件(衍射光栅)。自组装技术原理:利用分
发布时间:2025-05-19 点击次数:15
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行业动态
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微纳结构在生物医学领域的应用面临哪些挑战?
微纳结构在生物医学领域的应用展现出巨大潜力,但其实际转化仍面临诸多挑战,这些挑战涉及材料科学、生物学、工程学及临床应用等多个维度。以下从核心技术、生物相容性、产业化及监管等方面展开分析:一、材料与技术层面的挑战1.精准制备与可控性难题复杂
发布时间:2025-05-16 点击次数:8
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行业动态
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微纳结构在生物医学领域有哪些应用?
利用微纳结构的高灵敏度和特异性,实现对生物分子(如DNA、蛋白质、病毒)的精准检测。1.表面增强光谱技术原理:通过纳米颗粒(如金/银纳米粒子)或纳米阵列的局域表面等离子体共振(LSPR)效应,增强分子的拉曼散射或荧光信号。应用:快速
发布时间:2025-05-16 点击次数:10
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行业动态
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微纳结构的应用领域
电子学领域集成电路:微纳结构可提高芯片的集成度,减小器件尺寸,降低能耗,提升计算速度和性能,推动了电子产品的小型化和高性能化发展。传感器:基于微纳结构的传感器具有高灵敏度、高选择性和快速响应等特点,可用于检测气体、液体中的各种物质,以及测量
发布时间:2025-05-15 点击次数:7
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行业动态
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微纳结构制备方法
光刻技术:包括紫外光刻、电子束光刻、极紫外光刻等,通过光刻工艺可以在基底上精确地制作出各种微纳图案和结构,是半导体制造等领域中常用的微纳加工方法。蚀刻技术:有干法蚀刻和湿法蚀刻两种。干法蚀刻利用等离子体等对材料进行刻蚀,具有高精度、可控性好
发布时间:2025-05-15 点击次数:6
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行业动态
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光刻加工的应用领域有哪些?
光刻加工是一种高精度的微纳加工技术,在众多领域都有着关键应用,以下是一些主要的应用领域:集成电路制造芯片制造:光刻加工是芯片制造过程中的核心技术,用于在硅片上制作出极其精细的电路图案。从早期的微米级芯片到如今的纳米级芯片,光刻技术的精度不断
发布时间:2025-05-14 点击次数:7
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行业动态
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光刻加工介绍
光刻加工光刻加工是一种利用光的作用将掩膜版上的图形转移到光刻胶上,进而在衬底材料上实现精细图形加工的技术,在集成电路制造、微机电系统、光电子器件等领域有着广泛应用。以下是关于光刻加工的原理、工艺步骤及相关技术的详细介绍:光刻加工原理:光刻加
发布时间:2025-05-14 点击次数:10
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行业动态
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从传统光纤到光子晶体光纤
光纤是20世纪的重大科技成就之一。该技术以令人难以置信的速度发展,从1970年的一根低损耗单模光纤至今,光纤已成为全球所广泛使用的通信网络的重要组成部分。光纤也在通信之外的其他微纳结构热压印领域应用,如医学领域的光束分配与传送、机械加工与诊
发布时间:2019-11-07 点击次数:198
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行业动态
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电子束光刻和纳米压印光刻
根据德布罗意的物质波理论,电子在加速电压作用下获得极高的能量,其波长可以达到0.1埃以下,电子束斑的直径可以降至几纳米。电子束光刻利用电子束作为“光源”,电子束在电磁透镜的作用下偏转,可以在基底的光刻胶上写出自定义的图形。电子束
发布时间:2019-09-18 点击次数:320
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行业动态
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光刻技术的原理
光刻加工(lithography)是芯片制造中的一项关键技术,也是微纳器件制备过程中必不可少的一道工艺,其目的是在晶圆(衬底)上实现芯片设计所要求的图形。Lithography源于希腊语,其中litho,grap
发布时间:2019-09-17 点击次数:269
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行业动态
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光刻加工工艺的评价标准
光刻加工工艺的评价标准一个集成电路的制造过程(processflow)是由许多工艺单元(unitprocess)构成的, 每一个工艺单元的输出就是下一个工艺单元的输入。工艺单元之间的衔接和整合是由工艺集成 (processinte
发布时间:2019-01-25 点击次数:809
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行业动态
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中国半导体产业因光刻胶失色
我国虽然已成为世界半导体生产大国,但 面板产业整体产业链仍较为落后。 目前,上游电子化学品(LCD用光刻胶)几乎全部依赖进口,须加快面板产业关键核心材 料基础研究与产业化进程,才能支撑我国微电子产业未来发展及“地位”的确立。 彩色薄
发布时间:2019-01-25 点击次数:412
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