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纳米压印

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纳米压印

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  • 发布日期:2019/06/21
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纳米压印       

纳米压印光刻技术的研究始于普林斯顿大学纳米结构实验室 Stephen Y.Chou 教授, 将一具有纳米图案的模版以机械力(高温、高压)在涂有高分子材料的硅基板比例压印 复制纳米图案,其加工分辨力只与模版图案的尺寸有关,而不受光学光刻的短曝光波长的 物理限制,目前 NIL 技术已经可以制作线宽在 5nm 以下的图案。由于省去了光学光刻掩模 版和使用光学成像设备的成本。因此 NIL 技术具有低成本、高产出的经济优势。此外,NIL 技术可应用的范围相当广泛,涵盖纳米电子元件、生物或化学的硅片实验室、微流道装置(微 混合器、微反应器),很高存储密度磁盘、微光学元件等领域。

纳米压印

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关键词:纳米压印技术,纳米压印设备,纳米压印机

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