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    新闻

  • [公司新闻] 微纳结构与光电器件的关系

    微纳结构与光电器件的关系结合微纳光电器件的应用需求,通过数值计算和功能模拟实验,开发具有新型结构和功能的微光元件,提升微纳结构器件的光电特性和潜在应用;在分子与原子尺度上对纳米光电器件的物理化学结构、光电子传输与转换的动力学过程和机理开展研
    发布时间:2019-08-30   点击次数:331

  • [媒体报道] 微纳结构增材制造工艺

    日前,国家重点研发计划——微纳结构增材制造工艺与装备项目启动会在上海世博中心隆重召开。上海普利生机电科技有限公司(以下简称普利生)作为项目牵头单位联合东南大学、中国科学技术大学、华中科技大学、华东理工大学、南京大学、南京航空航天大学、长春理
    发布时间:2019-08-29   点击次数:164

  • [媒体报道] 微纳结构的前沿应用场景

    光学与光子学超表面透镜:基于纳米天线阵列的平面透镜,厚度仅微米级,可替代传统曲面光学元件,用于手机摄像头、AR/VR设备。结构色技术:通过纳米级图案调控光的散射与干涉,实现不褪色的色彩(如蝴蝶翅膀仿生涂层、环保印刷)。2.能源与环境高效
    发布时间:2025-05-19   点击次数:17

  • [行业动态] 什么是微纳结构

    微纳结构是指人为设计的、具有微米或纳米尺度特征尺寸、按照特定方式排布的功能结构。随着第三代光学成像技术向集成化、轻量化、超大口径发展,传统折反式光学系统面临着诸多瓶颈,而微纳结构光学微纳结构紫外压印元件具有重量轻、设计自由度高、结构灵活等特
    发布时间:2019-11-26   点击次数:1241

  • [行业动态] 微纳结构制备方法

    光刻技术:包括紫外光刻、电子束光刻、极紫外光刻等,通过光刻工艺可以在基底上精确地制作出各种微纳图案和结构,是半导体制造等领域中常用的微纳加工方法。蚀刻技术:有干法蚀刻和湿法蚀刻两种。干法蚀刻利用等离子体等对材料进行刻蚀,具有高精度、可控性好
    发布时间:2025-05-15   点击次数:13

  • [行业动态] 微纳结构的应用领域

    电子学领域集成电路:微纳结构可提高芯片的集成度,减小器件尺寸,降低能耗,提升计算速度和性能,推动了电子产品的小型化和高性能化发展。传感器:基于微纳结构的传感器具有高灵敏度、高选择性和快速响应等特点,可用于检测气体、液体中的各种物质,以及测量
    发布时间:2025-05-15   点击次数:13

  • [行业动态] 微纳结构在生物医学领域有哪些应用?

    利用微纳结构的高灵敏度和特异性,实现对生物分子(如DNA、蛋白质、病毒)的精准检测。1.表面增强光谱技术原理:通过纳米颗粒(如金/银纳米粒子)或纳米阵列的局域表面等离子体共振(LSPR)效应,增强分子的拉曼散射或荧光信号。应用:快速
    发布时间:2025-05-16   点击次数:20

  • [行业动态] 微纳结构在生物医学领域的应用面临哪些挑战?

    微纳结构在生物医学领域的应用展现出巨大潜力,但其实际转化仍面临诸多挑战,这些挑战涉及材料科学、生物学、工程学及临床应用等多个维度。以下从核心技术、生物相容性、产业化及监管等方面展开分析:一、材料与技术层面的挑战1.精准制备与可控性难题复杂
    发布时间:2025-05-16   点击次数:15

  • [行业动态] 微纳结构的制备技术

    微纳结构的制造依赖高精度加工手段,主要技术包括:光刻技术原理:通过光照射光敏材料,结合刻蚀工艺实现图案转移,如极紫外(EUV)光刻可实现纳米级分辨率。应用:芯片制造(7nm以下制程晶体管)、微纳光学元件(衍射光栅)。自组装技术原理:利用分
    发布时间:2025-05-19   点击次数:29

  • [行业动态] 微纳结构的分类体系

    微纳结构根据空间维度、尺寸范围及功能特性,微纳结构可形成多维度分类体系,不同类型结构在性能与应用场景上各有侧重。(一)微纳结构按空间维度分类该分类是微纳结构最核心的分类方式,涵盖从零维到多维的完整结构体系,其中零维、一维结构以纳米尺度为主,
    发布时间:2026-01-21   点击次数:11

  • [行业动态] 微纳结构的核心应用领域

    依托独特的尺度效应与性能优势,微纳结构已广泛渗透到多个前沿领域,核心应用场景如下:电子与微机电系统(MEMS):承担传感、驱动、控制等关键功能,用于制备微传感器、微泵、微阀、纳米晶体管等器件,应用于消费电子、工业控制、航空航天等领域,推动器
    发布时间:2026-01-21   点击次数:5

  • [行业动态] 微纳结构的制备技术有哪些?

    微纳结构制备技术主要分为“自上而下”与“自下而上”两大类,各类技术特点及适用场景如下:一、微纳结构自上而下制备技术(从宏观材料刻蚀至微纳尺度)电子束光刻(EBL):精度达1nm以上,通过电子束扫描光刻胶形成图案,分辨率极高,适用
    发布时间:2026-01-21   点击次数:12

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