企业名称：
联系人：
电话：
手机：
邮箱：
传真：
地址：
网址 : www.micro-graph.com.cn
光刻技术：包括紫外光刻、电子束光刻、极紫外光刻等，通过光刻工艺可以在基底上精确地制作出各种微纳图案和结构，是半导体制造等领域中常用的微纳加工方法。
蚀刻技术：有干法蚀刻和湿法蚀刻两种。干法蚀刻利用等离子体等对材料进行刻蚀，具有高精度、可控性好等优点；湿法蚀刻则是通过化学溶液与材料发生化学反应来去除不需要的部分，工艺相对简单、成本较低。
纳米压印技术：将具有微纳结构的模板压印到软质材料上，使材料复制出模板的微纳结构，可用于大规模制备微纳结构，具有效率高、成本低等优势。
自组装技术：利用原子、分子或纳米颗粒之间的自组装作用力，如范德华力、氢键、静电作用等，使其在一定条件下自发地排列成有序的微纳结构，该方法可以制备出复杂的、具有特定功能的微纳结构。
在线咨询
