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光刻工艺质量检测要点

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光刻工艺质量检测要点

发布日期:2025-11-14 作者: 点击:

质量检测是保障光刻效果的关键,需采用多种检测手段全面把控图形质量:

尺寸检测:使用扫描电子显微镜(SEM)或原子力显微镜(AFM)测量图形线宽、间距,确保符合设计要求,偏差控制在允许范围内。

缺陷检测:采用光学缺陷检测设备,检查胶膜表面有无针孔、划痕、颗粒,图形有无倒塌、残留、边缘模糊等缺陷,缺陷密度需控制在每平方厘米≤0.1个。

附着力测试:通过胶带剥离试验或划格试验检测光刻胶与衬底的附着力,确保胶带剥离后胶膜无脱落,划格区域无起皮现象。

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本文网址:http://www.micro-graph.com.cn/news/494.html

关键词:光刻加工,纳米压印,微纳结构

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