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    新闻

  • [公司新闻] 光刻加工光刻胶的主要技术参数有哪些?

    光刻加工光刻胶的主要技术参数有哪些?1.灵敏度(Sensitivity)灵敏度是衡量光刻胶曝光速度的指标。光刻胶的灵敏度越高,所需的曝光剂量越小。单位:毫焦/平方厘米或mJ/cm2。2.分辨率(resolution)区别硅片表面相邻图形特征
    发布时间:2018-09-27   点击次数:1101

  • [公司新闻] 纳米压印公司为您解析纳米压印光刻加工技术

    1引言由于经济原因促使半导体业朝着不断缩小特征尺寸方向发展,随之而来的技术进步导致了设备的成本以指数增长。由于成本的增长,人们对纳米压印光刻这一低成本图形转移技术的关注越来越多。通过避免使用昂贵的光源和投影光学系统,纳米压印光
    发布时间:2019-01-25   点击次数:723

  • [公司新闻] 光刻加工的两道工序介绍

    光刻加工,在精密加工中占的比重虽然不大,但由于其重要性以及不可替代性,越来越受到重视,下面来简单介绍一下光刻加工。  光刻加工是一种主要用于制作集成电路、微型机械等的加工方法。对于高精度微细线条所构
    发布时间:2019-07-18   点击次数:309

  • [媒体报道] 光刻加工光刻胶光刻以及显影工艺介绍

    克服了普通光刻胶采用UV深宽比不足的问题,在近紫外光(365nm-400nm)范围内光吸收度很低,且整个光刻胶层所获得的曝光量均匀一致,可得到具有垂直侧壁和高深宽比的厚膜图形;它还具有良好的力学性能、抗化学腐蚀性和热稳定性;在受到紫外辐射后
    发布时间:2017-12-14   点击次数:378

  • [媒体报道] 光刻胶是什么?光刻加工为您大揭底

    光刻胶是一大类具有光敏化学作用(或对电子能量敏感)的高分子聚合物材料,是转移紫外曝光或电子束曝照图案的媒介。光刻胶的英文名为resist,又翻译为抗蚀剂、光阻等。广泛应用于集成电路(IC),封装(Packaging),微机电系统(MEMS)
    发布时间:2018-10-08   点击次数:250

  • [媒体报道] 光刻加工光刻胶的特点有哪些?

    光刻加工光刻胶产品特点:1.光刻胶种类齐全,可以满足多种工艺要求的用户。产品种类包含:各种厚度的紫外光刻胶(正胶或负胶),lift-off工艺用胶,LIGA用胶,图形反转胶,化学放大胶,耐刻蚀保护胶,聚酰亚胺胶,全息曝光用胶,电
    发布时间:2018-10-08   点击次数:175

  • [行业动态] 光刻加工光刻胶材料有哪些?

    光刻加工光刻胶材料有哪些?大家听多了光刻机、蚀刻机以及nm工艺这样的术语,对光刻胶还是十分陌生的。买回来的硅圆片经过检查无破损后即可投入生产线上,前期可能还有各种成膜工艺,然后就进入到涂抹光刻胶环节。微 影光刻工艺是一种图形影
    发布时间:2019-01-25   点击次数:625

  • [行业动态] 光刻加工工艺的评价标准

    光刻加工工艺的评价标准一个集成电路的制造过程(processflow)是由许多工艺单元(unitprocess)构成的, 每一个工艺单元的输出就是下一个工艺单元的输入。工艺单元之间的衔接和整合是由工艺集成 (processinte
    发布时间:2019-01-25   点击次数:636

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