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新闻

[公司新闻] 光刻加工光刻胶的主要技术参数有哪些？

光刻加工光刻胶的主要技术参数有哪些？1．灵敏度（Sensitivity）灵敏度是衡量光刻胶曝光速度的指标。光刻胶的灵敏度越高，所需的曝光剂量越小。单位：毫焦/平方厘米或mJ/cm2。2．分辨率（resolution）区别硅片表面相邻图形特征
发布时间：2018-09-27 点击次数：1455

[公司新闻] 纳米压印公司为您解析纳米压印光刻加工技术

1引言由于经济原因促使半导体业朝着不断缩小特征尺寸方向发展，随之而来的技术进步导致了设备的成本以指数增长。由于成本的增长，人们对纳米压印光刻这一低成本图形转移技术的关注越来越多。通过避免使用昂贵的光源和投影光学系统，纳米压印光
发布时间：2019-01-25 点击次数：821

[公司新闻] 光刻加工的两道工序介绍

光刻加工，在精密加工中占的比重虽然不大，但由于其重要性以及不可替代性，越来越受到重视，下面来简单介绍一下光刻加工。　　光刻加工是一种主要用于制作集成电路、微型机械等的加工方法。对于高精度微细线条所构
发布时间：2019-07-18 点击次数：393

[媒体报道] 光刻加工光刻胶光刻以及显影工艺介绍

克服了普通光刻胶采用UV深宽比不足的问题，在近紫外光（365nm-400nm）范围内光吸收度很低，且整个光刻胶层所获得的曝光量均匀一致，可得到具有垂直侧壁和高深宽比的厚膜图形；它还具有良好的力学性能、抗化学腐蚀性和热稳定性；在受到紫外辐射后
发布时间：2017-12-14 点击次数：468

[媒体报道] 光刻胶是什么？光刻加工为您大揭底

光刻胶是一大类具有光敏化学作用(或对电子能量敏感)的高分子聚合物材料，是转移紫外曝光或电子束曝照图案的媒介。光刻胶的英文名为resist，又翻译为抗蚀剂、光阻等。广泛应用于集成电路(IC)，封装(Packaging)，微机电系统(MEMS)
发布时间：2018-10-08 点击次数：301

[媒体报道] 光刻加工光刻胶的特点有哪些？

光刻加工光刻胶产品特点：1.光刻胶种类齐全，可以满足多种工艺要求的用户。产品种类包含：各种厚度的紫外光刻胶（正胶或负胶），lift-off工艺用胶，LIGA用胶，图形反转胶，化学放大胶，耐刻蚀保护胶，聚酰亚胺胶，全息曝光用胶，电
发布时间：2018-10-08 点击次数：218

[行业动态] 光刻加工光刻胶材料有哪些？

光刻加工光刻胶材料有哪些？大家听多了光刻机、蚀刻机以及nm工艺这样的术语，对光刻胶还是十分陌生的。买回来的硅圆片经过检查无破损后即可投入生产线上，前期可能还有各种成膜工艺，然后就进入到涂抹光刻胶环节。微影光刻工艺是一种图形影
发布时间：2019-01-25 点击次数：759

[行业动态] 光刻加工工艺的评价标准

光刻加工工艺的评价标准一个集成电路的制造过程（processflow）是由许多工艺单元（unitprocess）构成的，每一个工艺单元的输出就是下一个工艺单元的输入。工艺单元之间的衔接和整合是由工艺集成（processinte
发布时间：2019-01-25 点击次数：834

[行业动态] 光刻加工介绍

光刻加工光刻加工是一种利用光的作用将掩膜版上的图形转移到光刻胶上，进而在衬底材料上实现精细图形加工的技术，在集成电路制造、微机电系统、光电子器件等领域有着广泛应用。以下是关于光刻加工的原理、工艺步骤及相关技术的详细介绍：光刻加工原理：光刻加
发布时间：2025-05-14 点击次数：21

[行业动态] 光刻加工的应用领域有哪些？

光刻加工是一种高精度的微纳加工技术，在众多领域都有着关键应用，以下是一些主要的应用领域：集成电路制造芯片制造：光刻加工是芯片制造过程中的核心技术，用于在硅片上制作出极其精细的电路图案。从早期的微米级芯片到如今的纳米级芯片，光刻技术的精度不断
发布时间：2025-05-14 点击次数：17

[行业动态] 芯片制造的核心工艺---光刻加工

基本原理：利用光（紫外线、极紫外光等）透过掩膜版（Mask），将电路设计图案投影到涂有光刻胶的硅片上，通过化学反应选择性刻蚀，实现图案转移。关键流程步骤：晶圆预处理清洗硅片表面，去除杂质和颗粒，确保光刻胶均匀附着。涂覆底涂层（如HMDS）
发布时间：2025-05-27 点击次数：48

[行业动态] 介绍一下光刻加工技术的发展历程

光刻加工（Photolithography）是半导体制造、微机电系统（MEMS）、印刷电路板（PCB）等精密制造领域的核心技术之一，其原理是通过光线（如紫外线、极紫外光EUV等）照射，将掩膜版（Mask）上的图案转移到涂有光刻胶的基板表面，
发布时间：2025-06-03 点击次数：31

[行业动态] 探索光刻加工技术

探索光刻技术光刻技术（Lithography）是半导体制造、精密光学器件加工等领域的核心技术，其原理是通过光线（或粒子束）的选择性照射，将掩膜版（Mask）上的图案转移到涂有光刻胶的基板表面，从而实现纳米级至微米级图形的精确复制。以下从技术
发布时间：2025-06-04 点击次数：12

[行业动态] 光刻加工中常用的掩膜版材料有哪些？

在光刻加工中，掩膜版（Mask）是用于传递图案信息的关键元件，其材料需具备高透光率、热稳定性、化学惰性和机械强度等特性。以下是常用的掩膜版材料及其特点和应用场景：一、玻璃基掩膜版材料 1.熔融石英（FusedSilica）特性
发布时间：2025-06-10 点击次数：10

[行业动态] 光刻加工完整加工流程

光刻加工是一个多步骤协同的精密过程，每一步骤的精度都会直接影响最终产品质量，典型流程包括以下七个核心环节：基底预处理：对硅片、玻璃等基底进行清洗、烘干和表面改性，去除表面杂质、油污和氧化物，同时通过涂覆黏附剂增强光刻胶与基底的结合力，避免后
发布时间：2025-12-02 点击次数：17

[行业动态] 光刻加工技术在半导体行业的应用前景如何？

光刻加工技术作为半导体行业的“核心基石”，其应用前景与半导体产业的技术演进、市场需求深度绑定，呈现先进制程精度迭代、成熟制程稳守阵地、封装领域专项突破、国产化多元突围四大核心方向，具体可从以下维度展开：一、先进制程：EUV主导高端逻辑
发布时间：2026-01-13 点击次数：11

[行业动态] 光刻加工技术：微纳制造的核心基石

光刻加工技术（Lithography）是微纳制造领域的核心工艺，本质是通过光线或粒子束的选择性照射，将掩膜版上的精密图案转移到基板表面，实现纳米级至微米级结构的精准复刻。其原理类比于印刷技术中的照相制版，却凭借极致的分辨率控制，
发布时间：2026-01-16 点击次数：8

[行业动态] 光刻加工技术的应用场景有哪些？

光刻加工技术核心应用场景光刻技术已从半导体核心工艺延伸至多跨学科领域，成为高端制造的关键支撑，具体场景如下：1.半导体制造这是光刻技术最核心的应用领域。极紫外光刻（EUV）支撑3nm及以下先进制程逻辑芯片的晶体管、金属互连层图形化（如
发布时间：2026-01-16 点击次数：6

[行业动态] 光刻加工的关键要素有哪些？

光刻加工的关键要素主要包括以下几类，直接影响光刻精度、图案质量及工艺稳定性：1.核心参数（决定分辨率上限）遵循瑞利判据三大参数共同锁定精度上限：光源波长（λ）：波长越短，分辨率越高，是技术迭代的核心方向（如从DU
发布时间：2026-01-23 点击次数：7

[行业动态] 光刻加工的技术分类有哪些？

光刻加工可按能量源、工艺特点等维度分类，主流技术类型及核心特性如下，兼顾分类逻辑与实际应用场景，确保与前文技术内容衔接流畅：一、按光源/能量源分类（核心主流分类）深紫外光刻（DUVL）以深紫外光为能量源，核心波长为193nm（ArF
发布时间：2026-01-23 点击次数：9

何经理

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