新闻
-
1引言由于经济原因促使半导体业朝着不断缩小特征尺寸方向发展，随之而来的技术进步导致了设备的成本以指数增长。由于成本的增长，人们对纳米压印光刻这一低成本图形转移技术的关注越来越多。通过避免使用昂贵的光源和投影光学系统，纳米压印光
发布时间：2019-01-25 点击次数：821
-
纳米压印技术是目前纳米沟道加工的主要技术。传统的光刻技术主要是利用电子和光子改变光刻胶的物理化学性质，进而得到相应的纳米图形。而纳米压印技术则可以在不使用电子和光子的前提下，直接利用物理学机理机械地在光刻胶上构造纳米尺寸图形。正是由于这
发布时间：2019-07-09 点击次数：320
-
纳米压印技术原理基本一致，只是工艺变得更加简单、实用和廉价。1三种典型纳米压印技术的工艺方法及其关键技术1热压印(Hotembossing)热压印(Hotembossing)是很早开发出的纳米压印技术，相对其他技术，它也是被研究的很
发布时间：2019-07-19 点击次数：458
-
纳米压印技术是一种新型的微纳加工技术。该技术通过机械转移的手段，达到了很高的分辨率，有望在未来取代传统光刻技术，成为微电子、材料领域的重要加工手段。纳米压印技术分为三个步骤一是模板的加工。一般使用电子束刻蚀等手段，在硅或其他衬底上加工出所需
发布时间：2019-07-22 点击次数：172
-
纳米压印技术具有光学曝光的快速、大面积复制的优点，同时这种技术还具有可与电子束直写技术相比拟的纳米级分辨率。纳米压印是机械的压印过程，其分辨率不受光衍射、电子散射等限制，只取决于压印模板的图形以及压印条件。另外纳米压印成本低产量高，且操作简
发布时间：2023-03-11 点击次数：603
-
纳米材料"纳米材料"是一个术语,包括所有纳米材料,包括工程纳米粒子、附带纳米粒子和自然界中存在的纳米物体。纳米为长度单位，1米=10的9次方纳米。纳米材料以生物材料或人类活动的副产品的形式存在于自然界中。例如,血
发布时间：2023-03-11 点击次数：3061
-
纳米压印中的紫外固化压印是什么？紫外固化压印(UV-curableNanoimprintLithograhpy)则是目前综合优势好的压印技
术，它不需要高温、高压条件，加工精度高、加工效率高、对准性好。紫外压印新的一个改
进技术是步
发布时间：2018-10-12 点击次数：958
-
纳米压印技术具有光学曝光的快速、大面积复制的优点，同时这种技术还具有可与电子束直写技术相比拟的纳米级分辨率。纳米压印是机械的压印过程，其分辨率不受光衍射、电子散射等限制，只取决于压印模板的图形以及压印条件。另外纳米压印成本低产量高，且操作简
发布时间：2018-10-12 点击次数：189
-
纳米压印技术是目前纳米沟道加工的主要技术。传统的光刻技术主要是利用电子和光子改
变光刻胶的物理化学性质，进而得到相应的纳米图形。而纳米压印技术则可以在不使用电子和
光子的前提下，直接利用物理学机理机械地在光刻胶上构造纳米尺寸图形。正是由
发布时间：2019-01-25 点击次数：651
-
微纳米技术（MEMS,nanotechnology）为微机电系统(MEMS)技术和纳米科学技术（nanoscienceandtechnology,nanoST）的简称，是20世纪80年代末在USA、日本等发达国兴起的高新科学技术
发布时间：2019-07-26 点击次数：263
-
紫外纳米压印胶一般由主体树脂、光引发剂、溶剂以及添加剂等四部分组成，根据主体树脂不同，紫外纳米压印光刻胶一般可分为环氧树脂、乙烯基醚、丙烯酸酯等几类。LGuo研究了一种新型的以环氧硅酮为中间体的紫外固化材料，该环氧硅酮中间体可通过加入乙酸
发布时间：2016-07-27 点击次数：1692
-
纳米压印设备的制作方法背景技术：随着半导体技术及其精密零部件的不断发展，纳米级的技术应用越来越广泛，从而纳米压印设备越来越广泛的应用到各行各业。基于现在市场的需要，加上现阶段纳米压印设备结构单一，自动化程度低，模板定位不准确，压印过程中的压
发布时间：2016-07-27 点击次数：329
-
在位于城阳区兴阳路上的青岛博士创业园里，宛天巍手里拿着一个巴掌大小的展示板，给客户展示精密仪器印刷术的成果——亚毫米级精密零件。在这个展示板上，精致地排列着各种很小的零部件，看起来只有小拇指甲的十分之一大小。“这些都是我们用纳米压印技术方法
发布时间：2019-07-11 点击次数：522
-
目前，大量的研究机构开展了该技术的研究工作，惠普的研究人员StanWilliams用纳米压印光刻技术做出了线宽45nm的实验存储芯片，StanWilliams是惠普实验室的量子科学研究方向的研究主任，他说："我们正在使用纳米压
发布时间：2019-07-12 点击次数：608
-
由于经济原因促使半导体业朝着不断缩小特征尺寸方向发展，随之而来的技术进步导致了设备的成本以指数增长。由于成本的增长，人们对纳米压印光刻这一低成本图形转移技术的关注越来越多。通过避免使用昂贵的光源和投影光学系统，纳米压印光刻比传统光刻方法大大
发布时间：2019-07-15 点击次数：232
-
1引言由于经济原因促使半导体业朝着不断缩小特征尺寸方向发展，随之而来的技术进步导致了设备的成本以指数增长。由于成本的增长，人们对纳米压印光刻这一低成本图形转移技术的关注越来越多。通过避免使用昂贵的光源和投影光学系统，纳米压印光
发布时间：2019-08-02 点击次数：2194
-
压印本质上从本质上是一种印刷复制技术，是将模板进行大量复制的技术。压印技术加工技术根据图形尺寸的大小可分为纳米压印技术和模压技术。开始提出的纳米压印技术为热压印纳米技术和室温纳米压印技术。纳米压印是一种全新的纳米图形复制方法。流程图如图1所
发布时间：2019-08-27 点击次数：211
-
三种典型纳米压印技术的工艺方法及其关键技术1.热压印热压印是早开发出的纳米压印技术，相对其他技术，它也是被研究的为充分，应用的为厂泛，是目前纳米压印技术的主
发布时间：2019-09-02 点击次数：1857
-
纳米压印技术突破了传统光刻在特征尺寸减小过程中的难题，具有分辨率高、低成本、高产率的特点。自1995年提出以来，纳米压印已经经过了14年的发展，演变出了多种压印技术，广泛应用于半导体制造、mems、生物芯片、生物医学等领域。被誉为十大改变人
发布时间：2019-09-05 点击次数：352
-
为了改善热压印中热变形的缺点，特克萨斯大学的C.G.willson和S.v.Sreenivasan开发出步进-闪光压印，这种工艺中采用对紫外透明的石英玻璃（硬模）或PDMS（软模），光阻胶采用低粘度，光固
发布时间：2019-09-06 点击次数：359
-
纳米压印技术分为三个步骤。第一步是模板的加工。一般使用电子束刻蚀等手段，在硅或其他衬底上加工出所需要的结构作为模板。由于电子的衍射极限远小于光子，因此可以达到远高于光刻的分辨率。第二步是图样的转移。在待加工的材料表面涂上光刻胶
发布时间：2019-09-09 点击次数：1032
-
根据德布罗意的物质波理论，电子在加速电压作用下获得极高的能量，其波长可以达到0.1埃以下，电子束斑的直径可以降至几纳米。电子束光刻利用电子束作为“光源”，电子束在电磁透镜的作用下偏转，可以在基底的光刻胶上写出自定义的图形。电子束
发布时间：2019-09-18 点击次数：333
-
光刻技术实际上是一种精表面加工技术，它借助于一定波长的激光光源以及选择性的化学腐蚀和刻蚀技术把设计的微纳图案转移到硅基板上。但是随着集成电路功能和密度的提升传统的光刻技术已经难以满足当前对线宽越来越小的需求。但是打破衍射极ji限的大型光刻设
发布时间：2019-12-10 点击次数：271
-
模具制备：利用电子束光刻等技术制作具有纳米级图案的模具（通常为石英、硅或聚合物材质）。压印过程：将模具压在涂有光刻胶（或聚合物薄膜）的基板上，使胶层发生塑性变形或化学反应（如紫外固化），复制模具图案。脱模与图形转移：移除模具后，通过刻蚀或剥
发布时间：2025-05-20 点击次数：13
-
模具缺陷与寿命：纳米级模具易受污染或磨损，影响图案保真度，需开发抗腐蚀材料（如类金刚石涂层）和原位检测技术。气泡与填充不均匀：压印过程中胶层可能残留气泡，或边缘区域填充不足，需优化压力分布和胶层厚度控制。多步套刻精度：复杂器件需多次压印套刻
发布时间：2025-05-20 点击次数：12
-
纳米压印技术的应用已从实验室走向工业化，尤其在半导体存储芯片、AR光学、柔性电子等领域实现规模化生产。随着模板制备技术（如自组装模板）和设备智能化（如AI参数优化）的突破，其在3nm以下先进制程、量子计算、生物医疗等前沿领域的应用
发布时间：2025-05-21 点击次数：20
-
纳米压印技术在柔性电子领域有广泛应用，以下是一些主要方面：柔性传感器压力传感器：在柔性衬底上压印纳米级的电极阵列或敏感材料图案，如纳米柱、纳米孔等结构。当受到压力时，这些纳米结构的变形会导致电阻、电容或压电等特性发生变化，从而实现对压力的高
发布时间：2025-05-21 点击次数：18
-
纳米压印技术的核心优势是“高分辨率+低成本+材料兼容性”，纳米压印技术已渗透到多个高端制造领域：1.半导体与微电子应用：存储器件（如NAND闪存的3D堆叠结构）、微处理器芯片的纳米线结构、射频器件的微纳天线；案例：三星、
发布时间：2025-11-26 点击次数：21
-
凭借高分辨率+低成本+广基底的综合优势，纳米压印已在半导体、微纳光学、柔性电子、生物医疗、新能源等领域实现产业化应用，是微纳制造的“多面手”：1.半导体领域：先进封装为核心替代传统光刻用于晶圆级封装（WLP）、扇出型封装（FO-
发布时间：2026-02-02 点击次数：8
-
纳米压印光刻技术的现状目前，大量的研究机构开展了该技术的研究工作，惠普的研究人员StanWilliams用纳米压印光刻技术做出了线宽45nm的实验存储芯片，StanWilliams是惠普实验室的量子科学研究方向的研究主任，他
发布时间：2019-01-25 点击次数：160
在线咨询
